膜厚分布与监控技术要点分析.pptVIP

实验原理： 在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后，光线的反射和折射在一般情况下会同时存在的。通常，设介质层为n1、n2、n3，φ1为入射角，那么在1、2介质交界面和2、3介质交界面会产生反射光和折射光的多光束干涉。 椭偏仪测量薄膜厚度和折射率 椭偏仪方法又称为偏光解析法。其特点是可以同时对透明薄膜的光学常数和厚度进行精确的测量，缺点是原理和计算比较麻烦。 椭偏仪不仅可以用于薄膜的光学测量，而且可以被用于复杂环境下的薄膜生长的实时监测，从而及时获得薄膜生长速度、薄膜性能等有用的信息。 * 随着蒸发过程，n逐渐增大 * * * * * 当机械振动而产生的交变电场频率与交变电压频率达到共振时，振幅最大 膜层厚度的均匀性和实时测量 2、膜厚的理论分布和计算 1、实际源的蒸汽发射特性 3、膜层厚度的测量 膜层厚度的均匀性: 膜厚随基板表面位置变化而变化的情况 MgF2减反膜，膜厚λ /4 λ 520 nm 4 nm, 不同颜色 渐变滤色片 膜厚均匀现 的重要性 源的种类 源的形状 源/基板之间的相对位置 基板的旋转 膜厚分布 MBE 分子束流分布和基底温度 CVD 源气体流分布和基底温度分布 温度决定化学反应的速度 溅射 等离子体分布 “流水生产线” 重点讨论热蒸发情况：点源和面源 1 忽略蒸发原子与剩余气体和蒸发原子之间的碰撞。 在真空中气体分子的平均自由程为：L 0.65 /