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一、均匀形核 与液态金属结晶相比,固态相变的阻力增加了一项应变能。接经典形核理论,系统自由能总变化为: 式中 ΔG--- 系统自由能总变化; ΔGv--- 体积自由能变化; ΔGσ--- 界面能; ΔGE--- 应变能。 驱动力和阻力各是什么,各项的正负号? 二、非均匀成核 金属固态相变多为非均匀成核,各种晶体缺陷均可作为成核位置,缺陷储存的能量可使成核功降低,因而比均匀成核要容易得多。核胚在晶体缺陷处形成时,系统的自由能变化为: -ΔGd是非均匀形核时由于晶体缺陷消失而释放的能量。因此,将导致临界形核功降低,从而促进形核过程。 (一)空位 加速扩散过程(较大),释放自身能量(较小)。 空位群崩塌成位错而促进形核。 (二)位错 (1) 形核处位错线消失时所释放出来的能量作相变驱动力,以降低形核功。 (2)新相形核时位错并不消失,而依附于新相界面上构成半共格界面上的位错部分,以补偿错配,降低应变能,使形核功降低。 (3)溶质原子在位错线上偏聚,使溶质含量增高,便于满足新相形成时所需的成分条件,使新相晶核易于形成。 (4)位错线可作为扩散的短路通道,降低扩散激活能,从而加速形核过程。 (5)位错可分解形成由两个部分位错与其间的层错组成的扩展位错,使其层错部分作为新相的晶胚而有利于形核。(例:fcc中的层错有利于hcp相的形核) (三)晶界 晶界形核时可使界面能释放出来作为相变驱动力,以降低形核功;而且晶界也是扩散的快速通道。 晶界形核时,新相与母相的某一个晶粒有可能形成共格或半共格界面,以降低界面能,减少形核功。这时共格的一侧往往呈平直界面,新相与母相间具有一定的取向关系。 由于大角晶界两侧的晶粒通常没有对称关系,故晶核一般不可能同时与两侧晶粒共格,而是一侧共格,一侧非共格,为了降低界面能,非共格一侧往往呈球冠形。 相界作用与晶界类似。 §4 固态相变时的晶核长大 一、新相长大机理 形核之后,便开始晶核的长大过程。新相晶核的长大,实质上是界面向母相方向的迁移,依固态相变类型和晶核界面结构的不同,其晶核长大机理也不同。 有些固态相变,如共析转变、脱溶转变、贝氏体转变等,由于其新、母相的成分不同,新相晶核的长大必须依赖于溶质原子在母相中作长程扩散,使相界面附近的成分符合新相的要求。 有些固态相变,如同素异构转变,块状转变和马氏体转变等,其新、母相的成分相同,只需界面附近的原子作短程扩散,甚至完全不需扩散即可使新相晶核长大。 1、半共格界面的迁移 因为半共格界面具有较低的界面能,故长大过程中往往继续保持为平面。晶核长大时,界面作法向迁移,半共格界面上的界面位错亦随之移动。 a)为平界面,若刃型位错的柏氏矢量b沿界面方向,则其不能通过滑移而必须借位错攀移才能跟随界面移动。但是平界面位错攀移困难,故其牵制界面迁移,阻碍晶核长大。 b)为阶梯界面,面间位错分布在阶梯状界面上,其位错的滑移运动使阶梯跨过界面侧向迁移,而使界面沿其法线方向发展,从而使新相长大。 2、非共格界面的迁移 非共格界面原子排列混乱,为不规则排列的过渡薄层。 1)界面很容易接受原子和输出原子,随母相原子不断地向新相中转移,界面本身作法向迁移,新相连续长大。 2)共格或半共格界面上存在非共格的台阶,其长大是以台阶侧向移动的方式进行的,台阶的侧向移动引起晶面在垂直方向上推移,使新相长大。 3、散型相变与无散型相变 1)扩散型相变:大多数固态相变是依靠扩散来进行的 特点: ①相变过程中有原子扩散运动,扩散速度影响转变速率; ②在合金的相变中,新相和母相的成往往不同; ③只有因新相和母相比容不同引起的体积变化,没有形状改变。 2)无扩散型相变:相变是通过切变完成。其晶核长大是通过半共格晶面上母相一侧原子的切变来完成的。 特点: ①相变不需要通过扩散,新相和母相的化学成分相同。 ②新相和母相之间存在一定的晶体学位相关系。 ③存在由于均匀切变引起的形状改变。表面浮凸效应。 ④相界面移动速度极快,可接近声速。 二、新相长大速度 新相长大速度决定于界面迁移速度。 对于无扩散型相变,由于界面迁移是通过点阵切变完成的,不需原子扩散,其长大属于界面控制过程。 对于扩散型相变来说,界面迁移需借助于原子的短程或长程扩散,新相的长大速度既可能是扩散控制,也可能是界面控制过程。 无成分变化的扩散型相变 原子越过界面的速度决定长大速度。 有成分变化的扩散型相变: 原子从基体扩散到界面和原子越过界面的速度共同决定长大速度,较慢的过程为控制因素。 三、长大速度与过冷度的关系 扩散型
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