去除磷硅玻璃重点.pptVIP

去除磷硅玻璃 在扩散过程中发生如下反应： POCl3分解产生的P2O5淀积在硅片表面， P2O5与Si反应生成SiO2和磷原子： 这样就在硅片表面形成一层含有磷元素的SiO2，称之为磷硅玻璃。 什么是磷硅玻璃？ 磷硅玻璃的去除 氢氟酸是无色透明的液体，具有较弱的酸性、易挥发性和很强的腐蚀性。但氢氟酸具有一个很重要的特性是它能够溶解二氧化硅，因此不能装在玻璃瓶中。 在半导体生产的清洗和腐蚀工艺中，主要就利用氢氟酸的这一特性来除去硅片表面的二氧化硅层。 氢氟酸能够溶解二氧化硅是因为氢氟酸能与二氧化硅作用生成易挥发的四氟化硅气体。 若氢氟酸过量，反应生成的四氟化硅会进一步与氢氟酸反应生成可溶性的络和物六氟硅酸。 总反应式为： 清洗液配制 将各槽中破损硅片等杂质清除，用去离子水将各槽壁冲洗干净。 1号槽中注入一半深度的去离子水，加入13瓶商品氢氟酸，再注入去离子水至溢流口下边缘。 向2号槽中注满去离子水。 装片 经等离子刻蚀过的硅片，经检验合格后插入承片盒。 注意，经过磷扩散处理的表面，面向承片盒的背面放置，严禁装反。每盒25片，扣好压条，装入包塑不锈钢提篮。 开机 根据《磷腐槽操作规程》作业指导书打开电源、压缩空气、氮气和去离子水。 设定1槽时间1分钟，2槽时间6分钟。 投片清洗 按照《磷腐槽操作规程》作业指导书的规定确定设备自动运行的前提条件都得到满足。 将装满硅片的包塑不锈钢提篮推至0号位，按下控制板上“自动运行”按钮，设备即开始自动运行。 注意事项 在配制氢氟酸溶液时，要穿好防护服，戴好防护手套和防毒面具。 不得用手直接接触硅片和承载盒。 当硅片在1号槽氢氟酸溶液中时，不得打开设备照明，防止硅片被染色。 硅片在两个槽中的停留时间不得超过设定时间，防止硅片被氧化。 检验标准 当硅片从1号槽氢氟酸中提起时，观察其表面是否脱水，如果脱水，则表明磷硅玻璃已去除干净；如果表面还沾有水珠，则表明磷硅玻璃未被去除干净。 烘干后，抽取两片硅片，在灯光下目测：表面干燥，无水迹及其它污点。