经典电镀制程技术培训解读.pptVIP

銅球配製前清洗程序 1.配20ML/L雙氧水和20ML/L的硫酸浸泡5-10分鐘呈暗色 2.用純水沖洗乾淨放入鈦籃 錫球配製前處理程序 1.配10g/L NaOH 浸20分鐘 2.經鹼液處理后用清水沖洗 3.配5ML/L硫酸中和殘留鹼性,浸10-20分鐘 4.用純水洗凈后放入鋯籃. ICU IICU電流條件區別 鹼性蝕刻機從機體結構上大致可分為剝膜,蝕刻與剝錫三段 剝膜:去除多余銅面上覆蓋的干膜,使線路以外部分的銅面裸露出來 剝膜條件: 溫度 50±5 OC NaOH濃度 4±1% 蝕刻:去除線路以外部分多余的銅面(即一次銅),使線路在蝕刻阻劑錫鉛的保護下得以保留 蝕刻原理: Cu+Cu(NH3)42++2CL- 2Cu(NH3)2+ +2CL– 2Cu(NH3)2++2CL–+O2+4NH3 Cu(NH3)42++2CL– 新液洗條件 PH 9.5±0.25 蝕刻條件: CL- 190±20g/l Cu2+ 150±10g/l PH 8.2±0.3 比重 1.18~1.22 上噴