薄膜制程及薄膜厚度监控方法报告.pptVIP

薄膜製程及薄膜厚度監控方法 譜訊光電:官家麟 Outline 光學薄膜介紹 影響製程的因素 薄膜厚度監控方法 光學薄膜 原理: 經由光學干涉作用而達到其效果者。 特性: 高、低折射率材料堆疊(Sub/HLHLHL……..) 。 光干涉作用 形成光學薄膜 Light Source Transmission Reflection 理想薄膜之條件 光學方面 膜質均勻 折射率固定 不隨環境改變 沒有吸收及散射 機械力學方面 附著性強 硬度大 耐磨 化學方面 不變質 不易與其他物質反應 鍍膜製程 物理氣性沉積(PVD) 將薄膜材料由固態轉化為氣態或離子態 。氣態或離子態之材料，由蒸發源穿越空間，抵達玻璃表面。材料抵達玻璃表面後，將沉積而逐漸形成薄膜。 平均自由動徑（mean free path）: 定義為一個氣體粒子在碰撞其他粒子前所走的平均距離。 鍍膜環境: 為求製得之薄膜，能擁有高純度，因此鍍膜製程是在高真空環境下完成。 ???? 各種壓力範圍之平均自由動徑 粗略真空 Coarse vacuum 中度真空 Intermediate vacuum 中度高真空 Medium-high vacuum 高真空 High vacuum 超高真空 Ultra-high vacuum 壓力範圍 760-100 100-1 1-10-3 10-3-10-7 ＜10-7 在20℃時剩餘空氣 分子之平均自由動 徑（厘米） 5×10-6 - 5×10-5 5×10-5 – 5×10-3 5×10-3 - 5 5 ~ 5×104 ＞5×104 製程參數對薄膜性質之影響 鍍膜設備對製程的影響 光學允差 受製程誤差影響之敏感度 檢討可容許之膜層厚度允許 考慮需要怎樣的折射率允差和厚度均勻性 製程參數變化對光學性質之影響 製程參數 光學性質 代表例 蒸度速率 折射率 對0.1nm/s的變動 TiO2 有1%改變 物理厚度 正比於蒸度速率 溫 度 折射率 對1℃的變動TiO2有0.2改變(在 250℃時) 物理厚度 對1℃的變動ZnS有0.2改變(在 170℃時) 真空度 折射率 對10ˉ5 mbar的變動TiO2有 1 ﹪改變 (在10ˉ4 mbar時) 物理厚度 正比於(壓力)ˉ1 撞擊角度 折射率 從0?到45?MgF2有1.5﹪改變 (在270℃時) 物理厚度 正比於COS(角度) 殘留氣體 折射率 從高真空到超高真空 MgF2 有1 ﹪改變(在270℃時) 從空真空 到大氣 折射率 MgF2有1 ﹪改變(在270℃時) 應用範圍 光學系統元件之抗反射膜、抗紫外線膜、亮度衰減膜、雙色濾光片、偏極分光片、偏極延遲片、高反射鏡膜、與窄帶濾光片 AR Filter ?AR=Anti-Reflection可提高穿透率，降低反射率 Application: Camera Cover Glass LCD Protective Glass Optical Equipment Cover Glass 光學薄膜厚度監控 厚度定義: 1.物理厚度　 d 　單位:nm 2.光學厚度 nd　折射係數和物理厚度乘積 N d 石英膜厚計 原理：利用石英片振盪頻率變動量測物理厚度 鍍膜厚度成長　—　石英片重量改變　--　石英片振盪頻率改變　– 計算重量變化　– 從薄膜密度和石英片面積計算薄膜厚度 Assume: Material Index N=Const 石英膜厚監控優缺點 優點 (1)石英膜厚計具高度靈敏性 ， 常用的石英震盪片其共 振頻率為5~6MHz ，可達0.1nm的靈敏度 (2)易於與電腦溝通 缺點 (1)量測的參數為膜材的質量並非厚度 (2)Quartz的共振頻率為溫度之函數 ，所以需控制其冷 卻水的溫度 (3)使用的膜材及製程必須相當穩定 單波長光學膜厚計 直接監控薄膜厚度變化 從最大光量或最小光量的極值確定膜厚　（1/4 膜厚　 1QWOT） 從光量最大或最小的程度，可判斷折射係數變化。 單波長光學膜厚計輔以電腦控制可進行非1/4 膜厚控制  廣波域光學膜厚計 直接監控光譜 選擇適當的評價方法 需要準確的材料特性計算