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多弧靶真空电弧稳定性影响因素.docVIP

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  • 2018-03-28 发布于安徽
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多弧靶真空电弧稳定性影响因素.doc

    多弧靶真空电弧稳定性影响因素.doc

    多弧靶真空电弧稳定性的影响因素 多弧离子镀膜是近十年来发展最为迅速的真空镀膜技术之一。这项技术从发展初始，遇到的关键问题是作为该技术核心的阴极弧源的设计、制造及工作稳定性问题。对于真空电弧镀膜设备的设计人员和使用者来说，电弧源工作稳定性至为重要，这是获得优质膜层的基本保证。本文就电弧源工作稳定性问题加以讨论，探讨电弧源维持正常放电影响因素。

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