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- 2016-12-02 发布于河南
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小型离子溅射仪和透射专用超高真空镀碳仪价格
标题:离子溅射仪ETD-900C型和台式磁控溅射系统价格库号:JX164033 价格:百度搜【润联网】查询主要技术参数:
仪器简介:本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀膜导电膜(金膜),仪器操作简单方便, 是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术参数:1.靶(上部电极):材料:金,直径:50mm,厚度:0.1mm 纯度:99.999%2、真空室:直径:160mm,高:110mm3.样品台(下部电极):溅射面积:直径:50mm4.工作真空: 2×10-1—10-1 mbar5.离子电流表:最大电流:50mA6.计时器:根据溅射习惯设定单次溅射时间。7.最高电压:-1600DVC8.机械泵:2升/每秒9.工作室工作媒介气体:空气或氩气,10.真空气阀: 配有氩气专用进气口和微量充气调节,可连接φ4*2.5mm软管。主要特点:轻便、溅射面积大 靶材可按用户要求加工制作标题:台式溅射仪和真空磁控离子溅射镀膜仪价格库号:JX164034 价格:百度搜【润联网】查询主要技术参数:
ETD-2000C 溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件,具有溅射和蒸发两种功能。 满足电镜实验室的扫描电子
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