- 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
LOGO 本作品采用知识共享署名-非商业性使用 2.5 中国大陆许可协议进行许可。 专业交流 模板超市 设计服务 NordriDesign中国专业PowerPoint媒体设计与开发 本作品的提供是以适用知识共享组织的公共许可( 简称“CCPL” 或 “许可”) 条款为前提的。本作品受著作权法以及其他相关法律的保护。对本作品的使用不得超越本许可授权的范围。 如您行使本许可授予的使用本作品的权利,就表明您接受并同意遵守本许可的条款。在您接受这些条款和规定的前提下,许可人授予您本许可所包括的权利。 查看全部… 学号:2014231008 院系:材料学院 姓名:郭皓 镁合金微弧氧化技术制备表面陶瓷膜 目录 一 微弧氧化技术介绍 二 微弧氧化技术在镁合金的应用 三 微弧氧化陶瓷膜 四 微弧氧化陶瓷膜表面形貌 五 影响膜层结构和性能的工艺参数 微弧氧化技术是近年来备受关注的一种新型金属表面处理技术。其方法是通过对脉冲电参数和无重金属元素加入的电解液的匹配调整,在阳极表面产生微区弧光放电现象,进而在Al、Mg、Ti等金属表面原位生长出一层以基体金属氧化物为主的陶瓷层。 一 微弧氧化技术 基本原理: 微弧氧化的基本原理是使工作电压突破传统的阳极氧化的工作电压范围(法拉第区),进入高电压放电区,在电极上发生微等离子放电条件下,在基体材料(电极)上原位生成氧化膜。微弧氧化过程是许多基本过程的总和,这些过程伴随着热化学反应、电化学反应以及导电电极之间的物质输运等复杂现象。 原理图 微弧氧化装置图 微弧氧化电解槽 膜层的制备方法 按溶液性质 按电源性质 酸性电解液氧化法 碱性电解液氧化法 直流氧化法 交流氧化法 脉冲氧化法 分类 微弧氧化技术的优点主要有: 1)反应在溶液中进行,只要是溶液可及的地方都能够形成膜层,因此对零件形状的适应性很强。 2)电解液中不含有害物质,反应过程也不会生成新的有毒物质,对环境无污染。 3)硬度高(HV:500~2500)、耐磨性好,和其他工艺相比与基体的结合牢固,能够有效弥补轻合金表面不耐磨的缺陷。 4)膜层能够经受高低温的变化,具有较好的热匹配性。 5)膜层的绝缘性能优良(击穿电压可达3000-5000V)。 6)膜层的表面质量较高,光洁度较好且易于着色,适合用作装饰涂层。 7)成本低、操作简单,便于进行大规模生产。 优点 微弧氧化技术的缺点主要有: 1)由反应的机理决定,膜层为蜂窝状的多孔结构,均匀分布的小孔底部可起到保护作用的膜层厚度远远小于整个膜层的厚度。这使得膜层自身的耐腐蚀能力大打折扣。 2)膜层中含有大量基体金属的氧化物和氢氧化物,极易与酸性介质反应引起破坏,使微弧氧化膜的使用范围受到限制。 3)整个膜层的厚度较小(﹤300μm),硬度高、耐蚀能力强的致密层厚度通常只有总厚度的1/5左右。这使得膜层被作为耐磨耐蚀涂层时的使用寿命受到影响。至今也没有进行过任何针对微弧氧化膜层的长效可靠性研究。 4)高能耗。微弧氧化反应在高电压、大电流模式下进行,耗能较大,单个工件的加工面积很难提高,降低了生产效率。 缺点 与阳极氧化的比较 目前微弧氧化技术进入了快速发展的时期。总的来说,新的发展将集中在以下几点: 1)探索新的基材微弧氧化前处理工艺。以提高膜层的结合力为目标。 2)探索新的电解液添加剂。以改变膜层自身的性能如硬度、电阻、颜色和自愈合能力等为目标。 3)研制体积更小、更加智能化的电源设备。以降低能耗、稳定产品质量为目标。 4)探索新的膜层后处理工艺,使得微弧氧化膜层能够与其他表面防护方法相结合成为性能更加优良的复合膜层。以增强耐腐蚀能力和延长使用寿命为目标。 发展方向 二 微弧氧化技术在镁合金的应用 镁是最轻 ( 密度 1. 4 g/ cm 3 ) 和最易机加工的结构金属 , 具有许多优异性能 , 如硬度 / 质量比 ( 铸造镁合金 ) 和强度 / 质量比 ( 变形镁合金 ) 高 , 可铸性、 可焊性和延展性好 , 导热、 导电能力强 , 尺寸稳定性高 , 对震动、 噪音的缓冲能力强 , 可再生 , 对环境的污染小。镁合金目前在航空、 汽车、 电子工业上的应用日益广泛 , 年增长速度达到 20 % 。尽管镁有丰富的储量和优异的结构性能 , 但到目前为止主要是作为非结构材料使用。镁作为结构材料的应用潜力未得到开发 , 主要是因为镁较差的耐腐蚀性。增强镁耐蚀性的途径有两种 : 一种是开发耐蚀性强的高纯合金或新合金 ; 另一种是对现有镁合金进行表面处理 。 镁简介 镁合金氧化膜形成四个阶段 第 1 阶段 , 表面生成氧化膜 第 2 阶段 , 氧化膜被击穿 , 并发生等离子微弧放电 第 3 阶段 , 氧化进一步向深层渗
文档评论(0)