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干涉光刻制作纳米结构研究 一、 研究背景和目的 干涉光刻工艺的研究已经在国外兴起多年，这种工艺在加工亚微米尺度的表面结构表现出极大的优势，也为这些领域的研究提供了一重强有力的加工手段。 ?小尺度纳米结构加工中，Johannes等人证明了激光干涉光刻的加工尺度可以突破其光波波长极限，而进一步将表面图形尺度缩小； ?Ke Du研究小组以激光干涉光刻工艺加工的表面结构为基础，通过淀积金属的方法得到了质量很好的模版； ?Ivan B.Divliansky证明了该工艺加工出的表面结构在光子晶体应用中表现出非常好的应用价值。 而国内仅有少数高校和科研机构对激光干涉工艺进行研究，起步较早的有四川大学、南京大学以及复旦大学 尽管相对于国外起步较晚，但我国的干涉光刻技术在稳步追赶 一、研究背景和目的 ⑴开发一款使用405nm激光器为光源的Lloyds mirror激光干涉光刻设备，具备大面积、小尺度、稳定度高和工艺简单等优点； ⑵为亚微米尺度的加工提供了一种相对廉价且方便的手段，将大大推动国内对表面周期性纳米结构应用的研究； ⑶结合实验提出一些新的加工理念，将更为丰富激光干涉光刻工艺加工结构的种类，为激光干涉光刻在新的材料新的应用领域提供坚实的基础 二、课题理论基础 两束波长为λ，强度同为 的 平面波分别以相同的入射角θ对 称地入射到同一平面，该平面 的光强分步可以写为 这两束光干涉的强度在X-Z平面内沿着X方向成正弦变化，在垂直于X轴方向的平面上形成光栅线条图案，其周期P取决于 二、课题理论基础 二、课题理论基础 正文内容介绍 二、课题理论基础 三、研究成果展示 三、研究成果展示 三、研究成果展示 三、研究成果展示 三、研究成果展示 三、研究成果展示 三、研究成果展示 三、研究成果展示 三、研究成果展示 三、研究成果展示 三、研究成果展示 三、研究成果展示 三、研究成果展示 四、后面目标 * 专业：电子科学与技术 姓名：步惊云 学号：2011090080055 指导教师：聂风 目录 1 2 3 4 研究背景和目的 课题理论基础 研究成果展示 后期目标 1 研究现状 2 研究目的 1 干涉光刻基本原理 1 干涉光刻基本原理 双光束干涉曝光原理图 双光束双曝光原理图 2 Lloyds-mirror激光干涉光刻平台 由于这套系统借助于一面与样品平面呈90°平面反射镜,因此在仅需要一个光束,便可由反射镜所反射的部分光波同直接照射在样品平台的光波产生的干涉条纹来加工表面纳米结构 3 光刻工艺流程图 气相成底膜 旋转涂胶 软烘 对准和曝光 曝光后烘培 显影 坚膜 显影后检查 1 不同周期光栅结构的加工 周期300nm，入射角42° 周期540nm，入射角22° 1 不同周期光栅结构的加工 周期700nm，入射角17° 周期1.2um，入射角8° 2 不同占空比光栅结构的加工 占空比约为1:1.5 占空比约为2:1 3 多尺度光栅结构的加工 1400nm+700nm 3 多尺度光栅结构的加工 1400nm+700nm+466nm 4 二维单周期点阵结构的加工 1400nm×1400nm 4 二维单周期点阵结构的加工 SEM扫描结果 5 二维多尺度结构的加工 1400nm+700nm 5 二维多尺度结构的加工 1400nm+700nm+460nm 6 曝光时长对结构的影响 曝光50秒 曝光65秒 曝光75秒 7 灰尘对光镜照片的影响 硅片表面灰尘 光路中的灰尘 8 显影时间过长对光镜照片的影响 9 表面形貌 SEM扫描结果 AFM扫描结果 *