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1.3空间晶格 金刚石结构 金刚石晶格 * 1.3空间晶格 金刚石结构 闪锌矿结构(GaAs) 不同原子构成的四面体 * 1.3空间晶格 金刚石结构 * 1.4原子价键 离子键 (NaCl 库仑力) 共价键 (H2 共用电子对) 金属键 (Na 电子海洋) 范德华键 (弱 HF 电偶极子 存在分子或 分子内非健结合的力) * 1.4原子价键 硅原子和硅晶体 * 1.5固体中的缺陷和杂质 晶格振动 点缺陷 (空位和填隙) 线缺陷 * 1.5固体中的缺陷和杂质 替位式杂质 填隙式杂质 * 1.5固体中的缺陷和杂质 掺杂 为了改变半导体的导电性而向其中加入杂质的技术. 高温扩散 1000度 离子注入 50kev 损伤与退火 * 1.6半导体材料的生长 直拉单晶法(Czochralski方法) 外延生长:在单晶衬底表面生长一层薄单晶的工艺 * 1.7小结 常用半导体材料 晶格结构、晶胞、原胞 硅的金刚石结构 晶面、晶向的描述(密勒指数) 半导体中的缺陷 原子体密度,原子面密度的计算 * 课程主要内容 固体晶格结构:第一章 量子力学:第二章~第三章 半导体物理:第四章~第六章 半导体器件:第七章~第十三章 * 绪论 什么是半导体 按固体的导电能力区分,可以区分为导体、半导体和绝缘体 表1.1 导体、半导体和绝缘体的电阻率范围 材料 导体 半导体 绝缘体 电阻率ρ(Ωcm) < 10-3 10-3~109 >109 * 绪论 半导体具有一些重要特性,主要包括: 温度升高使半导体导电能力增强,电阻率下降 如室温附近的纯硅(Si),温度每增加8℃,电阻率相应地降低50%左右 微量杂质含量可以显著改变半导体的导电能力 以纯硅中每100万个硅原子掺进一个Ⅴ族杂质(比如磷)为例,这时 硅的纯度仍高达99.9999%,但电阻率在室温下却由大约214,000Ωcm降至0.2Ωcm以下 适当波长的光照可以改变半导体的导电能力 如在绝缘衬底上制备的硫化镉(CdS)薄膜,无光照时的电阻为几十MΩ,当受光照后电阻值可以下降为几十KΩ 此外,半导体的导电能力还随电场、磁场等的作用而改变 * 1.1半导体材料 元素半导体(Si、 Ge) 化合物半导体(双元素,三元素等) * 1.2固体类型 半导体的晶体结构 一、晶体的基本知识 长期以来将固体分为:晶体和非晶体。 晶体的基本特点: 具有一定的外形和固定的熔点,组成晶体的原子(或离子)在较大的范围内(至少是微米量级)是按一定的方式有规则的排列而成--长程有序。(如Si,Ge,GaAs) * 1.2固体类型 半导体的晶体结构 晶体又可分为:单晶和多晶。 单晶:指整个晶体主要由原子(或离子)的一 种规则排列方式所贯穿。常用的半导体材料锗(Ge)、硅(Si)、砷化镓 (GaAs)都是单晶。 多晶:是由大量的微小单晶体(晶粒)随机堆积成的整块材料,如各种金属材料和电子陶瓷材料。(晶界分离) * 1.2固体类型 半导体的晶体结构 非晶(体)的基本特点: 无规则的外形和固定的熔点,内部结构也不存在长程有序,但在若干原子间距内的较小范围内存在结构上的有序排列——短程有序 (如非晶硅:a-Si) * 1.2固体类型 半导体的晶体结构 非晶体(无定型) 多晶 单晶 * 1.3空间晶格 晶体是由原子周期性重复排列构成的,整个晶体就像网格,称为晶格,组成晶体的原子(或离子)的重心位置称为格点,格点的总体称为点阵。 * 1.3空间晶格 1.3.1 晶胞和原胞 1、晶胞_可以复制成整个晶体的一小部分(基本单元,可以不同) * 1.3空间晶格 晶胞和原胞 2、原胞_可以形成晶体的最小的晶胞 广义三维晶胞的表示方法: 晶胞和晶格的关系 * 1.3空间晶格 1.3.2 基本晶体结构 简立方sc 体心立方bcc 面心立方fcc 原子体密度 * 1.3空间晶格 1.3.3晶面与密勒指数 1、晶面表示方法: (1)平面截距:3,2,1 (2)平面截距的倒数:1/3,1/2,1 (3) 倒数乘以最小公分母:2,3,6 平面用(236)标记,这些整数称为密勒指数。 晶面可用密勒指数(截距的倒数)来表示:(hkl) * 1.3空间晶格 晶面与密勒指数 简立方晶体的三种晶面 (100) (110) (111) * 1.3空间晶格 晶面与密勒指数 体心立方结构(110)晶面及所截的原子 原子面密度 * 1.3空间晶格 晶面与密
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