第一章薄膜介绍.pptVIP

1.0 薄膜的定义 1.1 薄膜的例子 1.2 薄膜的特性 1.3 薄膜的分类 1.4 薄膜材料的研究进展 1.5 薄膜的应用举例 1.6 薄膜中的缺陷;什么是“薄膜”（thin film） 过去人们常用厚度来描述，把厚度为零点几纳米到几个微米的一层材料定义为薄膜。 新定义：通过原子、分子、离子的沉积过程，在基片上所得到的二维材料。 ;1.2 薄膜的特性;2.新的效应 同块体材料相比，由于薄膜材料的厚度很薄，很容易产生尺寸效应，就是说薄膜材料的物性会受到薄膜厚度的影响。 某一维度很小、比表面积大 例：表面和界面效应、耦合效应 部分薄膜具有纳米效应;3.可以获得体态下不存在的异常结构和非化学计量比结构 薄膜的制法多数属于非平衡状态的制取过程，薄膜的结构不一定和相图相符合。 规定把与相图不相符合的结构称为异常结构，不过这是一种准稳（亚稳）态结构，但由于固体的粘性大，实际上把它看成稳态也是可以的，通过加热退火和长时间的放置还会慢慢地变为稳定状态。 Diamond: 工业合成, 2000℃，5.5万大 气压, CVD生长薄膜:常压，800度.; 化合物的计量比，一般来说是完全确定的。但是 多组元薄膜成分的计量比就未必如此了。 当Ta在N2的放电气体中被溅射时，对应于一定的N2分压，其生成薄膜 的成分却是任意的。 ;;多功能薄膜： 各膜均有一定的电子功能，如非晶硅太阳电池: 玻璃衬底/ITO（透明导电膜）/P-SiC/i-μc-Si/n-μc-Si/Al和a-Si/a-SiGe叠层太阳电池:玻璃/ITO/n-a-Si/i-a-Si/P-a-Si/n-a-Si/i-a-SiGe/P-a-Si/Al至少在8层以上，总膜厚在0.5微米左右。 ;超晶格膜: 是将两种以上不同晶态物质薄膜按ABAB……排列相互重在一起，人为地制成周期性结构后会显示出一些不寻常的物理性质。如势阱层的宽度减小到和载流子的德布罗依波长相当时，能带中的电子能级将被量子化，会使光学带隙变宽，这种一维超薄层周期结构就称为超晶格结构。 当和不同组分或不同掺杂层的非晶态材料（如非晶态半导体）也能组成这样的结构，并具有类似的量子化特性，如a-Si?/a-Si1-xNx?/a-Si/a-Si1-xCx?。应用薄膜制备方法，很容易获得各种多层膜和超晶格。 ;1.3 薄膜的分类;电学薄膜： （1）半导体器件与集成电路中的导电材料与 介质薄膜材料Al, Cr, Pt, Au, Cu, 多晶硅， 硅化物，SiO2, Si3N4, Al2O3 （2）超导薄膜 YBaCuO, BiSrCaCuO， TlBaCuO等高温超导材料 （3）光电子器件中使用的功能薄膜 GaAs/GaAlAs、HgTe/CdTe、a-Si:H a-SiGe:H, a-SiC:H等晶态和非晶态薄膜;（4）薄膜传感器 可燃性气体传感器SnO2， 氧敏传感器ZrO2, 热敏传感器Pt, Ni, SiC, 离子敏传感器Si3N4,Ta2O5 （5）薄膜电阻、电容、阻容网络与混合集成 电路，低电阻率：Ni-Cr， 高电阻率:Cr-SiO, 薄膜电容：Zn，Al （6）薄膜太阳能电池: 非晶硅、CuInSe2, CdSe;（7）平板显示器件： 液晶显示、等离子体显示、电致发光显 示ITO透明电极，ZnS:Mn发光膜 （8）ZnO、Ta2O3、AlN表面声波元件 （9）磁记录薄膜与薄膜磁头，CoCrTa、 CoCrNi，FeSiAl、巨磁阻材料 （10）静电复印材料Se-Te、SeTeAs、a-Si;光学薄膜： （1）减反射膜：相机、摄像机、投影仪、 望远镜等MgF2，SiO2，ZrO2，Al2O3 红外设备镜头上的ZnS，CeO2，SiO （2）反射膜：太阳能接收器、镀膜反射镜、 激光器用的高反射率膜 （3）分光镜和滤波片：如彩色扩印设备上;（4）镀膜玻璃：建筑、汽车隔热 （5）光存储薄膜：光盘、唱片 Te81Ge15S2Sb2，TbFeCo （6）集成光学元件与光波导中 的介质薄膜与半导体薄膜;保护膜： （1）硬质膜，刀具、磨具表面的TiN，TiC， 金刚石、C3