第一章薄膜制备的真空技术基础介绍.pptVIP

第一章 薄膜制备的真空技术基础;第一章 薄膜制备的真空技术基础;1.1 气体分子运动论的基本概念;1.1 气体分子运动论的基本概念;1.1 气体分子运动论的基本概念;1.1 气体分子运动论的基本概念;1.1 气体分子运动论的基本概念;1.1 气体分子运动论的基本概念;1.1 气体分子运动论的基本概念;1.1 气体分子运动论的基本概念;1.1 气体分子运动论的基本概念;1.1 气体分子运动论的基本概念;1.1 气体分子运动论的基本概念;1.1 气体分子运动论的基本概念;1.1 气体分子运动论的基本概念;4. 单位面积上气体分子的碰撞频率 即单位面积上气体分子的通量（单位时间内，碰撞于单位面积上的气体分子数）。;衬底完全被一层分子覆盖所需时间：;5 气体的流动状态;气体流动状态分类;气体流动可按克努森准数来划分：Kn = D/? D为容器尺寸； ?为平均自由程 分子流状态：Kn? 1 中 间 状 态：Kn=1~110 粘滞流状态：Kn ? 110 ;1. 何为真空 物理学上的“真空”是指没有或者不计气体分子和原子存在的物理空间，仅存在各种能量粒子的场空间； 一般意义上的“真空”并不是指“什么物质也不存在”。 应用物理与技术所讨论的“真空”――低于一个大气压力的稀薄气体的空间状态。 ;1. 何为真空 ;2. 真空度的表征 通常用压强为单位来描述“真空”状态下的气体稀薄程度―真空度。 压强高则表示真空度低，低则表示真空度高。 真空度高表示真空度“好”，低则表示真空度“差”。;2. 真空度的表征 (1) 帕斯卡（Pa）：国际单位制 1Pa = 1牛顿/米2 = 1千克/米?秒2 = 10达因/cm2 = 7.5?10-3 Torr (2) 托（Torr)： 1 Torr = 1/760atm （一个标准大气压）= 133.32 Pa (3) 毫米汞柱（mmHg）：0℃时1 mmHg作用在单位面积上的力。 一个标准大气压（atm）= 760 mmHg 　 1 mmHg约等于1托。 (4) 巴（bar）：1bar = 105 Pa;2. 真空度的表征 为了便于讨论和实际应用，在我国，常把真空定性地粗划分为粗真空、低真空、高真空和超高真空四个区域（表1-1）。 各区域的真空物理特性如表1-2所示。（P3）;2. 真空度的表征 在薄膜技术领域，可以认为地将真空环境粗略地划分为（GB3163-82）： 低真空： ?102Pa 工业应用（包装） 中真空： 102~10-1Pa CVD沉积技术 高真空： 10-1~10-5Pa 溅射沉积技术 超高真空：? 10-5Pa 原子表面和界面分析;4. 真空及制膜设备;JP450磁控溅射镀膜系统;等离子增强CVD和热丝CVD复合系统; 对于一个真空系统理论上所能达到的真空度，与真空泵、真空系统的结构材料、加工工艺、管道等因素有关。 1.气体管路的流导、极限真空度和抽气速率 (1) 真空管路中气体的通过能力， 流导C定义为 －－P1和P2为管路两端的气压，Q为单位时间内通过管路的气体流量。 ;1.气体管路的流导、极限真空度和抽气速率 描述真空部件的气体通过能力，它使流动着的气体形成一定程度压力降低。;(2) 极限真空度 指被抽容器不漏气，经真空泵充分抽气后所能达到的最高真空度。;(3)真空抽速 真空泵的抽速S定义为 ---P为真空泵入口处气压，Q为单位时间内通过该处 的气体流量 ―S特指一个截面上的气体流速。;(a) 流量各处相等（无回流）： Q = C(P-Pp)=SpPp 真空容器出口处的实际抽速： ;无回流;2. 真空的获得;按真空获得方法;2. 真空的获得;真空的获得;对于任何一个真空系统而言，都不可能得到绝对真空（P=0），而是具有一定的压力Pm，称为极限压力（或极限真空）。这是系统能达到的最低压力，是真空系统能否满足镀膜需要的重要指标之一。 第二个主要指标是抽气速率，指在规定压力下单位时间所抽出气体的体积，决定抽真空所需要的时间。;机械泵的工作原理是建筑在玻义耳－马略特定律的基础上的，PV＝K，K为与温度有关的常数。 即在温度不变的条件下，容器的体积和气体压强成反比。;工作原理： 利用泵腔内活塞的往复运动，将气体吸入、压缩并排出。;工作原理： 运转时，在电动机的驱动下，通过曲柄连杆机构的作用，使汽缸内的活塞做往复运动。当活塞在汽缸内从左端向右端运动时，由于汽缸的左腔体积不断增大，汽缸内气体的密度减小，而形成抽气过程，此时被