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- 2016-07-19 发布于湖北
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第五章半导体催化剂
第二讲
宋伟明;5.2金属氧化物的结构及表面吸附 ;第一种为弱键吸附,被吸附的粒子保持电中性,
粒子和固体催化剂表面无电子交换。
第二种为n键吸附,也称受主键吸附,属强化学
吸附,被吸附的粒子从催化剂表面俘获电子形成
吸附键。
第三种是p键吸附,也称施主键吸附,也属强化
学吸附,被吸附的粒子从催化剂表面俘获自由空
穴而形成吸附键。;施主型反应,即施主键吸附为控制步骤。
受主型反应,即受主键吸附为控制步骤。
A + B------C
A e B
反应物A把电子给催化剂,形成A+,反应物B从
催化剂接受电子,形成B-, 然后A+ B-结合成产
物C。若A的吸附过程快,则形成施主键快,而
B的吸附慢,则形成受主键慢,整个表面催化过
成的速度由形成受主键的速度决定。
;施主型反应,必须增加催化剂中空穴数,即降低费米
能级,有利于施主键的形成。因此需加入受主杂质来
提高反应速率,此杂质起助催化剂作用,如果加入施
主杂质则起毒剂作用。
受主型反应,必须增加催化剂中电子密度,即提高费
米能级,使之容易给出电子以利于受主键的形成。因
此需加入施主杂质来提高反应速率,此杂质起助催化
剂作用。
CO +O2 CO2
P型半导体NiO上,CO吸附正离子是控速步骤(施主
型反应
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