化学催化第五章半导体催化剂第二讲论述.pptVIP

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  • 2016-07-19 发布于湖北
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化学催化第五章半导体催化剂第二讲论述.ppt

第五章半导体催化剂 第二讲 宋伟明;5.2金属氧化物的结构及表面吸附 ;第一种为弱键吸附,被吸附的粒子保持电中性, 粒子和固体催化剂表面无电子交换。 第二种为n键吸附,也称受主键吸附,属强化学 吸附,被吸附的粒子从催化剂表面俘获电子形成 吸附键。 第三种是p键吸附,也称施主键吸附,也属强化 学吸附,被吸附的粒子从催化剂表面俘获自由空 穴而形成吸附键。;施主型反应,即施主键吸附为控制步骤。 受主型反应,即受主键吸附为控制步骤。 A + B------C A e B 反应物A把电子给催化剂,形成A+,反应物B从 催化剂接受电子,形成B-, 然后A+ B-结合成产 物C。若A的吸附过程快,则形成施主键快,而 B的吸附慢,则形成受主键慢,整个表面催化过 成的速度由形成受主键的速度决定。 ;施主型反应,必须增加催化剂中空穴数,即降低费米 能级,有利于施主键的形成。因此需加入受主杂质来 提高反应速率,此杂质起助催化剂作用,如果加入施 主杂质则起毒剂作用。 受主型反应,必须增加催化剂中电子密度,即提高费 米能级,使之容易给出电子以利于受主键的形成。因 此需加入施主杂质来提高反应速率,此杂质起助催化 剂作用。 CO +O2 CO2 P型半导体NiO上,CO吸附正离子是控速步骤(施主 型反应

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