第2讲真空技术基础(4课时)技巧.ppt

第二讲 真空技术基础;要 点 ;1、气体分子的运动速度及其分布 气体分子运动论认为： 气体的大量分子每时每刻都处于无规则的热运动之中，其平均速度取决于气体所具有的温度；同时，在气体分子之间以及气体分子与容器壁之间，发生着不断的碰撞过程，这种碰撞过程的结果之一是使气体分子的速度服从一定的统计分布。气体分子的运动速度υ服从麦克斯韦尔-玻耳兹曼（Maxwell-Boltzmann）分布： （1-1） 式中，M为气体分子的相对原子质量，T为热力学温度，R为气体常数。 上式表明：气体分子的速度分布只取决于分子的相对原子质量M与气体热力学温度T 的比值; 根据式1-1，还可以求出气体分子的平均运动速度：可见：温度越高、气体分子的相对原子质量越小，则分子的平均运动速度越大；不同种类气体分子的平均运动速度也只与T/M的平方根成正比。  在常温条件下，一般气体分子的运动速度是很高的。比如在T=300K时，空气分子的平均运动速度υa ≈ 460m/s。  同时由气体的速度分布函数还可以证明，每摩尔气体分子的动能等于（3/2）RT，也只与其热力学温度有关。;薄膜材料的制备过程是: atom by atom ? 几乎所有的现代薄膜材料都是在真空或是在较低的气体压力下制备的，都涉及到气相的产生、输运以及气相反应的过程。; 大气压: atm, kg/cm2, bar Pa: N/m2 Torr: mm·Hg; 描述气体压强的单位很多，如下表： 注：1托就是指在标准状态下，1毫米汞柱对单位面积上的压力。 本书采用我国国家标准规定采用的Pa（或 MPa、 Gpa）作为气体压力的基本单位。; 气体的压力: 理想气体的状态方程 气体分子的速度分布: Maxwell-Boltzmann分布 气体分子的自由程、碰撞频率: ;（1）气体的压力 气体分子与容器壁的不断碰撞对外表现为气体具有一定的压力。 理想气体的压力p与气体分子的动能，或者说是与气体的热力学温度成正比，用理想气体状态方程式描述： 式中，n 单位体积内的分子数；NA 为阿伏加德罗（Avogadro)常数；n/NA 即等于单位体积内气体分子的摩尔数。 真空：宇宙空间所存在的“自然真空”；利用真空泵抽取所得的“人为真空”。 绝对真空：完全没有气体的空间状态。 一般意义上的“真空”并不是指“什么物质都不存在”。目前，即使用最先进的真空制备手段所能达到的最高真空度下，每立方厘米体积中仍有几百个气体分子。因此，平常所说的真空均指“相对真空状态”。 在真空技术中，常用“真空度”习惯用语和“压强”物理量表示真空程度，通常说成“某空间的真空度为多大的压强”。某空间的压强越低意味着真空度越高，反之，压强高的空间则真空度低。;（2）气体分子的平均自由程;H2和Al原子在不同温度下的速度分布;气体分子的自由程;粘滞态气流的两种不同的流动状态;; 为获得真空环境，需要选用不同的真空泵，而它们的一个主要指标是其抽速Sp，其定义为 ( L/s ) 真空泵的抽速Sp与管路的流导有着相同的物理量纲，且二者对维持系统的真空度起着同样重要的作用;2.2 真空获得的手段;;真空设备 ;真空泵的分类;旋片式真空泵;旋片式机械泵通