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;2.1 半导体三极管;图2.1 三极管的结构及符号
; 三极管内部结构分为发射区、基区和集电区,
相应的引出电极分别为发射极e、基极b和集电极c。
发射区和基区之间的PN结称为发射结,集电
区和基区之间的PN结称为集电结。
电路符号中,发射极的箭头方向表示三极管在
正常工作时发射极电流的实际方向。
; 三极管在制作时,其内部结构特点是:
(1 ) 发射区掺杂浓度高;
(2 ) 基区很薄,且掺杂浓度低;
(3 ) 集电结面积大于发射结面积。
以上特点是三极管实现放大作用的内部条件。
; 三极管按其所用半导体材料不同,分为硅管和锗管;
按用途不同,分为放大管、开关管和功率管;
按工作频率不同,分为低频管和高频管;
按耗散功率大小不同,分为小功率管和大功率管等。
一般硅管多为NPN型,锗管多为PNP型。; 2.1.2 三极管的电流放大作用
1.三极管放大的条件
三极管实现电流放大的外部偏置条件:发射结正偏,集电结反偏,此时,各电极电位之间的关系是:
NPN型 UC>UB>UE
PNP型 UC<UB<UE
如图2.2所示。
;; 2.电流分配关系
图2.3是NPN管放大实验电路。; 电路中的三极管的偏置满足发射结正偏,集电结反偏。
发射结正偏,可使发射区的多子(自由电子)通过PN结注入到基区,以形成基极电流IB;
集电结反偏,使集电极电位高于基极电位,于是在集电结上有一个较强的电场,把由发射区注入到基区的自由电子大部分拉到集电区,形成集电极电流IC。
调节Rb,改变IB的大小,得出相应的IC和IE的数据,如表2.1所示。;;
通常称 为共射极直流电流放大系数,因而有:
; 3.放大作用的实质
由上述实验结果可知,当IB有一微小变化时,能引起IC较大的变化,这种现象称为三极管的电流放大作用。
电流放大作用的实质是通过改变基极电流IB的大小,达到控制IC的目的,而并不是真正把微小电流放大了,因此称三极管为电流控制型器件。 ; 例2.1 测得工作在放??状态的三极管两个电极的电流如图2.4所示。
(1)求另一个电极的电流,并在图中标出实际方向。
(2)标出e、b、c极,并判断出该管是NPN型还
是PNP型管。
(3)估算其β值。;图2.4 例2.1图; 解:
(1)图2.4(a)中①、②管脚的电流均为流入,则③管脚的电流必为流出,且大小为0.1+4=4.1(mA),如图2.4(b)所示。
(2)由于③管脚的电流最大,①管脚的电流最小,因此①管脚为b极,②管脚为c极,③管脚为e极。又由于③管脚的发射极电流为流出,故该管为NPN型管。
(3)由于IB = 0.1mA,IC = 4mA,故:; 2.1.3 三极管的特性曲线
1.输入特性曲线
三极管的输入特性曲线如图2.5所示。; 由图2.5所示的输入特性曲线可以看出:
曲线是非线性的,也存在一段死区,当外加UBE电压小于死区电压时,三极管不能导通,处于
截止状态。
三极管正常工作时,UBE变化不大,对于硅管,UBE约为0.7V左右,锗管的约为0.3V左右。; 2.输出特性曲线
当IB取值不同时,就有一条不同的输出特性曲线,如图2.6所示。; 3.三极管的三个工作区
(1) 三极管输出特性曲线中,IB=0的输出特性曲线以下,横轴以上的区域称为截止区。其特点是:发射结和集电结均为反偏,各电极电流很小,相当于一个断开的开关。; (3) 输出特性曲线中,UCE≤UBE的区域,即曲线的上升段组成的区域称为饱和区。饱和区的特点是:发射结和集电结均为正偏。
饱和时的UCE称为饱和压降,用UCES表示,UCES很小,一般约为0.3V。工作在此区的三极管相当于一个闭合的开关,没有电流放大作用。; 2.1.4 三极管的主要参数
1.电
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