6.TFT-LCD制造技术-清洗技术.pptxVIP

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  • 2016-07-21 发布于湖北
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TFT-LCD 基础知识培训讲座                                   ;第三章 TFT-LCD制造技术;第四节 清洗技术简介; 清洗是指事前去除工艺中的基板污染或 Particle,使不发生不良 (Pattern open,short诱发/黑,白点…etc) 的工艺技术, 而且,通过 Glass 的有效 Cleaning,提高 Film间的 adhesion 效果及 Device的全般性特性向上。;Brush(Roll/Disk) ;4.2 Wet Cleaning;SW(shower)目的及清洗原理: SW(shower):是利用具有一定压力的DI water以喷淋的方式来清洗玻璃基板,主要用于去除一些浮游的以及1 μm以下的灰尘。在工程中的应用也极为广泛,经常与其他清洗设备搭配使用,可以用在RB后清洗剩余的化学清洗剂,也可以用来作为AK前的soft SW。在生产过程中主要的工艺控制参数有:SW的流量和压力,玻璃基板的传送速度等。主要的耗材有:虑塞,SW nozzle。 ;BJ(bubble jet)???的及清洗原理: BJ(bubble jet):也叫CJ(cabitation jet)是利用加了高压的DI water与空气混合后所产生的大量bubble来去除particle的一种清洗设备。该设备可以用来去除3

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