PVD_CHN(薄膜气相沉积).pptVIP

薄膜的物理气相沉积（PVD）;薄膜的应用;PVD简介;PVD的特性;薄膜分类;薄膜中涉及的研究课题;两种常见的薄膜结构;PVD的物理原理;PVD所需实验条件;平均自由程、压强和真空室尺寸的关系;残留气体对薄膜生长的影响;薄膜表面;外延生长层;;生长模式;薄膜生长中服从的物理原理;Ripening;Coalescence;薄膜;PVD的通用实验配置;热蒸发;热蒸发;;常用蒸发源;电子束蒸发; ;E-Gun Crucible;常用蒸发材料形态;脉冲激光沉积;脉冲激光沉积;Pulsed Laser Deposition (PLD) System;磁控溅射;溅射靶材;溅射过程的物理模型;溅射产值;择优溅射;溅射离子的运动学过程;附加磁场的优点;磁控溅射中的重要参数