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第七章 金属和半导体的接触 ; 1、金属半导体接触及其能级图;金属的功函数Wm;;半导体的功函数Ws;;p型半导体:;n型半导体:;设想有一块金属和一块n型半导体,并假定
金属的功函数大于半导体的功函数,即:;;;半导体中的电子;金属与n型半导体接触
接触电势差Vs=Ws-Wm
WmWs→形成表面势垒
势垒区电子浓度比体内小得多→高阻区(阻挡 层)。
界面处的势垒通常称为肖特基势垒。;若WmWs;金属与n型半导体接触时;金属与p型半导体接触时,若WmWs,形成空穴的表面势垒。在势垒区,空间电荷主要由电离受主形成,空穴浓度比体内小得多,也是一个高阻区域,形成P型阻挡层。;金属与p型半导体接触时,若WmWs,能带向
上弯曲,形成P型反阻挡层。;;金属功函数对势垒高度影响不大。
不同金属,虽功函数相差很大,但与半导体接触
形成势垒的高度相差很小。
半导体表面存在???面态。;;;;2、金属半导体接触整流理论;;;;(2)理论解释
①扩散理论
对于n型阻挡层,当势垒的宽度远大于电子平均自由程,电子通过势垒区发生多次碰撞,这样的阻挡层称为厚阻挡层。
扩散理论适用于厚阻挡层。
计算通过势垒的电流时, 必须同时考虑漂移和扩散运动。
势垒区的电势分布是比较复杂的,当势垒高度远大于k0T时,势垒区可近似为一个耗尽层。;;;; ②热电子发射理论
当n型阻挡层很薄,电子平均自由程远大于势垒宽度时,势垒的高度起绝对作用。
电流的计算归结为计算超越势垒的载流子数目。; ③镜像力和隧道效应的影响; 镜像力的影响; 隧道效应的影响;④肖特基势垒二极管;3.1 少数载流子的注入;3.2 欧姆接触;
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