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  • 2016-07-28 发布于天津
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四、小篆

四、小篆;秦 峄山刻石;秦诏版;东汉 袁安碑;五、隶书;战国 青川木牍;莱子侯刻石,16年,西汉末。平整逐渐变为率意,散漫的过程十分动人; 框线与字融为一体,成为不可或缺的组成部分。;礼器碑,156年,安静,从 容,方框结构端正平直,对 称结构、平行横画的距离等 处理得非常细致,作品中有 灵性。;东汉 乙瑛碑;西狭颂,171年,朱拓。结构方正,排列紧密,笔画因此未能像其他碑刻 那样飘动,但丝毫没有影响其结构的宽阔,生动。笔画厚重,有天趣,拙 朴而不失书写的流动感。;东汉 石门颂;张迁碑,186年,方 笔与圆笔并用,有时 同处一字中而带来复 杂的感觉,质朴憨厚 不可端倪;字结构棱 角分明,但与笔法上 的变化结合在一起, 外廓与内部空间变化 微妙。

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