EBL基本组成及工作原理精编.pptVIP

宋晨之EBL基本结构与工作原理 EBL=Electron Beam Lithography=电子束光刻 一、电子束曝光系统结构 column 电子源的分类 直热式 W，2700K 热发射电子源 旁热式 LaB6，1800K 电子源 热场发射 ZrO/W，1800K 场发射电子源 冷场发射 四种电子源对比 电子源三个关键参数：有效源尺寸，亮度，电子能量分布 热发射源能量分布大，聚焦斑束大，产生严重相差。 冷场致发射稳定性差，对真空要求高。故EBL系统选用热场致发射源。 旁热式热场致电子源结构示意图 阳 地 超高电场 阴 阴 阳 EBL中电子源结构示意图 几个牌子的EBL性能参数 二次电子探测器 Detector Illustrations with different signal sources I