退火温度对AZ薄膜光学性能的影响开题报告(肖旺).docVIP

本科毕业论文（设计）开题报告 题目：退火温度对AZO薄膜光学性能的影响 学 院：化学与材料工程学院 专 业： 材料化学 班 级： 11级本科班 学 号： 学生姓名： 肖 旺 指导教师： 刘伟伟 2014年10月10日 凯里学院本科生毕业论文（设计）开题报告表 论文(设计)名称 退火温度对AZO薄膜光学性能的影响 论文（设计） 来源 社会实践 论文（设计）类型 应用研究 指导教师 刘伟伟 学生姓名 肖旺 学号 2011438102 专业及班级 11材化 一、研究或设计的目的和意义： 400℃、450℃、500℃、550℃、600℃等温度为薄膜退火温度；以及不同的降温时间。研究退火温度对生成ZAO薄膜光学性能的影响，总结出退火温度对ZAO薄膜的影响规律。 二、研究或设计的国内外现状和发展趋势： Xu Zi-qiang,Deng Hong等人利用溶胶-凝胶法在玻璃基地上制备出了掺杂量为1.5mol%的AZO薄膜，最小电阻率可达6.2×10-4Ω·cm Satoshi Kobayakawa等人用射频磁控溅射法，通过改变基地温度溅射功率，氧的分压来寻找制备AZO薄膜的最佳试验参数，得到最佳质量的