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- 2016-08-12 发布于湖北
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第10章 半导体器件 跨导gm 10.4.2 电流放大原理 B E C N N P EB RB Ec 发射结正偏,发射区电子不断向基区扩散,形成发射极电流IE。 IE 1 进入P区的电子少部分与基区的空穴复合,形成电流IB ,多数扩散到集电结。 IB B E C N N P EB RB Ec IE 从基区扩散来的电子漂移进入集电结而被收集,形成IC。 IC 2 IC IB 要使三极管能放大电流,必须使发射结正偏,集电结反偏。 静态电流放大倍数 静态电流放大倍数,动态电流放大倍数 ? = IC / IB IC = ?IB 动态电流放大倍数 IB : IB +? IB IC : IC +? IC ? = ? IC / ? IB 一般认为: ? = ?= ?,近似为一常数, ?值范围:20~100 ? IC = ? ? IB 10.4.3 特性曲线 IC mA ?A V V UCE UBE RB IB USC USB 实验线路(共发射极接法) C B E RC IB 与UBE的关系曲线(同二极管) (1)输入特性 IB(?A) UBE(V) 20 40 60 80 0.4 0.8 UCE?1V 死区电压,硅管0.5V 工作压降: 硅管UBE ? 0.7V (2)输出特性(IC与UCE的关系曲线) IC(mA ) 1 2 3 4 UCE(V) 3 6 9 12 40?A
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