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材料现代分析复习题 一、填空题 1、影响透射电镜分辨率的因素主要有：衍射效应和电镜的像差（球差、像散、色差）等。 2、透射电子显微镜的照明系统由电子枪、聚光镜和相应的平移对中、倾斜调节装置组成。它的作用是提供一束亮度高、照明孔经角小、平行度好、束流稳定的照明源。它应满足明场和暗场成像需求。 3、透射电子显微镜的成像系统主要是由物镜、中间镜和投影镜组成。 4、 当X射线管电压超过临界电压就可以产生 特征谱 X射线和 连续谱X射线。 5、 X射线与物质相互作用可以产生 散射入射透射吸收IH=I0exp(-μH) 。 7、X射线的本质既是高频率不可见《光》,电磁波X射线，常用于 衍射分析 ；长波长的 X射线称 软X射线，常用于 荧光分析 。 9、 德拜相机有两种，直径分别是 57.3 和Φ114.6 mm。测量θ角时，底片上每毫米对 应 2 o和 1o。 10、衍射仪的核心是测角仪圆，它由试样台、辐射源和探测器正比计数器、闪烁计数器和SiLi半导体探测器等狭缝宽度、扫描速度和时间常数等衍射线条位移线条变宽衍射强度降低第二聚光镜光栏位于第二聚光镜焦点上物镜光栏位于 物镜的背焦面上选区光栏物镜、中间镜和投影镜与样品室构成照明系统、成像系统和观察记录系统真空系统、循环冷却系统和控制系统背散射电子、二次电子吸收电子亮法线晶面间距的倒数角因素,多重性因素,温度因素 影响DTA曲线的因素包括三个方面： 操作方面的因素，样品方面的因素，仪器方面的因素。 28、材料结构与性能的表征包括（材料性能）、（微观结构）和（成分）的测试与表征。 29、材料成分和微观结构分析可以分为三个层次：（化学成分分析）、（晶体结构分析）和（显微结构分析） 30 、DSC图谱的横坐标是（温度或时间），纵坐标是（热量）；而DTA图谱的横坐标是（温度或时间），纵坐标是（温差）。 二、选择题 1.用来进行晶体结构分析的 X 射线学分支是（ B ） A.X 射线透射学；B.X 射线衍射学；C.X射线光谱学；D.其它 2. M 层电子回迁到 K层后，多余的能量放出的特征 X射线称（ B ） A. Kα；B. Kβ；C. Kγ；D. Lα。 3. 当 X射线发生装置是 Cu 靶，滤波片应选（ C ） A． Cu；B. Fe；C. Ni；D. Mo。 4. 当电子把所有能量都转换为 X射线时，该 X射线波长称（ A ） A. 短波限λ0；B. 激发限λk；C. 吸收限；D. 特征X射线 5.当 X射线将某物质原子的 K层电子打出去后，L 层电子回迁 K层，多余能量将另一个L 层电子打出核外，这整个过程将产生（ D ） A. 光电子；B. 二次荧光；C. 俄歇电子；D. （A+C） 6.有一体心立方晶体的晶格常数是 0.286nm，用铁靶 Kα（λKα=0.194nm）照射该晶体能 产生（ B ）衍射线。 A. 三条； B .四条； C. 五条；D. 六条。 7.一束 X射线照射到晶体上能否产生衍射取决于（ C ） 。 A．是否满足布拉格条件；B．是否衍射强度 I≠0；C．A+B；D．晶体形状。 8. 电子束与固体样品相互作用产生的物理信号中可用于分析 1nm厚表层成分的信号是（ b ）。 a．背散射电子；b.俄歇电子 ；c. 特征X射线。中心暗场像的成像操作方法是（ c ）。 a．以物镜光栏套住透射斑；b．以物镜光栏套住衍射斑； c．将衍射斑移至中心并以物。Airy斑的大小用第一暗环的直径来衡量。 5、俄歇电子：X射线或电子束激发固体中原子内层电子使原子电离，此时原子(实际是离子)处于激发态，将发生较外层电子向空位跃迁以降低原子能量的过程，此过程发射的电子。 6、二次电子： 7、有效放大倍数：是把显微镜最大分辨率放大到人眼的分辨本领（0.2mm） ，让人眼能分 辨的放大倍数。 8、明场成像： 只让中心透射束穿过物镜光栏形成的衍衬像称为明场镜。 9、暗场成像：只让某一衍射束通过物镜光栏形成的衍衬像称为暗场像。 10、衍射衬度：由于样品中的不同晶体或同一晶体中不同部位的位向差异导致产生衍射程度不同而在图像上形成亮暗不同的区域差异，称为衍射衬度。 11、相位衬度：电子束在样品中传播，样品中原子核和核外电子因库伦场使电子波的相位发生改变，这种利用电子波位相的变化引起衍射强度不同而在图像上形成亮暗不同的区域差异，称为相位衬度。 12、TA：热分析的简称，是指在程序控制温度条件下，测量物质物理性质随温度变化的函数关系的技术。其基础是物质在加热或冷却过程中，随着物质物理状态或化学状态的变