ZnO薄膜中非线性的的研究.pptVIP

550°C退火： 750°C退火： 颗粒大小的比较： 通过与标度尺比对，350°C退火时颗粒大小约为25nm。 550°C退火时其颗粒大小约为50nm 750°C退火时颗粒大小约为150nm 我们将图像导入计算机，处理灰度后将其数值化，用加权盒计数法编程求其多重分形谱。 双对数图 从配分函数和度量尺度的双对数图可以看出在不同的尺度下各点线性关系较好，反映出图形具有尺度不变性，验证了ZnO薄膜的分形生长。 由广义分形维度Dq=k(q)/(q-1),导入不同退火温度下ZnO的图像，计算其广义分形维度分别为： 350°C：7.1 550°C：6.5 750°C：3.1 随着退火温度的升高，分形维度减小，这是因为在视场中ZnO颗粒为较亮部分，分形维度减小表征了ZnO颗粒增大，这与退火使薄膜颗粒增大的结论是一致的，至于维度的具体数值有一定的误差，因为某些地方亮部不是整个ZnO颗粒，某些地方暗部仍属于ZnO. 3.非线性光学性质的验证 我们采用Z扫描的方法研究氧化锌薄膜的非线性光学性质,得到在不同的z-point处激光通过薄膜后的透射率。 由于实验时所用的激光器出现故障，功率不稳定，导致测出的结果不理想，不能利用该数据得到精确的非线性系数。就最终得到的实验数据来看，我们实现了定性地验证ZnO薄膜对透光率的非线性性质。 透射率曲线： 理论结果如下： 由于仪器的原因没能得到开口处峰的图像，但由闭口处谷的图像和理论图像相比符合较好，由透射率曲线我们可定性的看出ZnO薄膜的非线性光学特性。 Outline 实验构想 实验过程 结果分析 实验总结 1.磁控溅射法生长较薄ZnO薄膜，观察了薄膜生长初期形貌。 2.研究了不同退火温度对薄膜生长形貌的影响，编程计算了其多重分形维度，验证了其分形生长。 3.研究了ZnO薄膜的非线性光学性质，验证了其为一种很好的非线性光学材料。 Thank you for attention! 学习动物精神 11、机智应变的猴子：工作的流程有时往往是一成不变的，新人的优势在于不了解既有的做法，而能创造出新的创意与点子。一味 地接受工作的交付， 只能学到工作方法 的皮毛，能思考应 变的人，才会学到 方法的精髓。 学习动物精神 12、善解人意的海豚：常常问自己：我是主管该怎么办才能有助于更好的处理事情的方法。在工作上善解人意， 会减轻主管、共 事者的负担，也 让你更具人缘。 ZnO薄膜中非线性的研究 Outline 实验构想 实验过程 结果分析 实验总结 ZnO薄膜中具有很多非线性的性质，如在ZnO膜生长过程中，呈现出分形形貌；ZnO材料具有较大的二阶和三阶非线性系数，是很好的非线性光学材料。 分形理论是Mandelbrot在20世纪70年代提为表征复杂图形和复杂过程而提出的，分形具有自相似性和空间尺度的不变性。 ZnO薄膜在生长过程中呈现分形生长，其表面形貌具有广义 的自相似性。我们试想观察不同实验条件下其表面形貌，提出模型模拟其生长过程，并用分维表征其分形性质，验证模型的适用性。 美丽的分形图片 美丽的分形图形 Outline 实验构想 实验过程 结果分析 实验总结 1.薄膜生长初期形貌研究 磁控溅射法，在Si和NaCl衬底上生长12.5nm的ZnO薄膜。 由于没有现成NaCl晶体，我们预先在化学实验室用蒸发过饱和溶液法生长了NaCl晶体。 XRD和SEM表征。 NaCl晶体的生长 2.退火温度对薄膜形貌的影响 磁控溅射法，在Si衬底上生长200nm的ZnO薄膜共四组。 分别进行不退火，350°C退火，550°C退火和750°C退火。 XRD和SEM表征。 3.非线性光学性质的验证 磁控溅射法，在玻璃衬底上镀膜200nm，通过Z扫描技术测得薄膜的透光率，测量其三阶非线性系数，验证其非线性光学特性。 Outline 实验构想 实验过程 结果分析 实验总结 1.薄膜生长初期形貌研究 Si衬底XRD表征： NaCl衬底XRD表征： Si衬底： SEM表征： 在一些区域，ZnO仍零星分布，未连接成片 棒状结构： 在ZnO较少的区域，晶体以棒状形貌存在： 在一些ZnO较多的区域，晶体已经初步连接成片，呈岛状生长： 积聚的ZnO晶体类似扩散受限聚集模型DLA： NaCl衬底： ZnO颗粒在NaCl表面散布，主要以小球状存在，一般为中心一颗粒较大小球和周围若干颗粒较小小球组成的小球组。 弹道沉积模型模拟ZnO溅射过程： 在溅射过程中，粒子垂直撞击到表面上，但方位和方向有一定随机性，碰到衬底表面的聚集基团后由于热运动和粒子间的吸引力仍要运动一段时间，最终稳定在一个能量较小的位置，1+1维弹道沉积模型可以较好模拟这种过程。 由于粒子在入射过程中有一定几率以斜角度入射，从而形成斜柱状形