超高分辨多靶材离子溅射仪208HR与高真空镀膜机价格.docxVIP

超高分辨多靶材离子溅射仪208HR和高真空镀膜机价格标题:三靶射频磁控溅射镀膜仪和透射专用超高真空镀碳仪参数库号：JX164033 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：仪器简介：本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀膜导电膜(金膜),仪器操作简单方便, 是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术参数：1.靶（上部电极）：材料：金，直径：50mm，厚度：0.1mm　纯度：99.999%2、真空室：直径：160mm，高：110mm3.样品台（下部电极）：溅射面积：直径：50mm4．工作真空： 2×10-1—10-1 mbar5.离子电流表：最大电流：50mA6.计时器：根据溅射习惯设定单次溅射时间。7.最高电压：-1600DVC8.机械泵:2升/每秒9.工作室工作媒介气体：空气或氩气，10．真空气阀： 配有氩气专用进气口和微量充气调节，可连接φ4*2.5mm软管。主要特点：轻便、溅射面积大 靶材可按用户要求加工制作标题:台式溅射仪和高真空镀膜机价格库号：JX164034 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：ETD-2000C 溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件，具有溅射和蒸发两种功能。 满足电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备和非导体材料实验电极制作。特点：在 ETD-2000/3000 离子溅射仪基础上，增加了热蒸发附件，可以蒸发碳丝，具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围，特别适用于扫描电镜实验室样品制备。型号ETD-2000c仪器尺寸400mm×300mm×400mm（L×W×H）靶（上部电极）50mm×0.1mm（D×H）真空样品室硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm（D×H）样品台50mm (D)操作真空4×10-1mbar至2×10-2mbar工作电压0-1600V (DC)可调溅射电流0-50mA溅射定时1-9999S蒸碳电流0-10A(AC)真空泵2升机械旋转泵标题:台式溅射仪和离子溅射仪ETD-2000Ⅲ参数库号：JX164036 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数： 150 T的机壳是整体成型的，结构坚固耐用，配有气冷的70L/S的涡轮分子泵，自动进气控制保证了溅射期间最佳的真空水平，真空腔室直径为165mm并带有防爆装置。150T具有“真空闭锁”功能，可在设备不工作时维持腔室的真空度，从而保证高真空的性能。150T系列全自动高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪给用户以类似傻瓜相机的简单操作、顶级的镀膜质量和对熟手/新手都很理想的用户界面，让用户真正领略至臻完美的镀膜品质！根据不同的应用方向，150T细分为三个型号：150TS：高分辨率溅射镀膜仪High Resolution Turbomolecular Pumped Sputter Coater，可溅射易氧化和不易氧化金属，可选各种溅射靶材，包括场发射电镜常用的铱和鉻。150TE：高真空镀碳仪，可制作高稳定的碳膜和表面覆形膜，是TEM应用最理想的选择。150TES：集合了离子溅射和热蒸镀两种真空沉积镀膜方式，镀膜标题:台式磁控溅射系统和高真空离子溅射仪参数库号：JX164037 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数： ETD-2000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。特点：1. 配置有样品溅射室真空表和溅射电流表，用以指示、监控仪器状态；2. 溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体，获得最佳镀膜效果；3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象；4. 陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用；5. 根据电场中气体电离特性，采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。型号ETD-2000主机规格L360mm*W300mm*H380mm 靶（上部电极）金：直径：50mm，厚度：0.1mm真空样品室直径：160mm，高：120mm溅射面积Ф50mm真空指示表最高真空度：≤ 4X10-2 nb标题:高真空离子溅射仪和高真空离子溅射仪EMSQ150价格库号：JX164038 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数： Features优势说明：源自1973年英国先进的电镜配套镀膜工艺，60多年专业技术及全球5000名科研工作者的信赖； 独特的受反馈控制的碳棒蒸发系统可以在膜厚为20nm左右进行多次蒸发，无须切削或调整碳棒形状；108C中使用的高纯碳棒可以在高倍下得到高质量的镀膜效果，以便进行电镜成