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清洗多晶硅用超纯水处理设备技术资料下载　　一、清洗多晶硅用超纯水处理设备概述清洗多晶硅用超纯水处理设备关键技术EDI技术与反渗透技术的有机结合，达到连续除盐、运行维护简单、无酸碱排放污染。多晶硅片，半导体器件等清洗过程中所需的纯水需要符合国家《电子级水质标准》18.2兆欧以上，目前最有效的制水工艺就是预处理加反渗透加EDI技术工艺。超纯水处理设备已被清洗多晶硅行业广泛应用。、　　资源共享来源于莱特莱德沈阳超纯水处理设备工程公司　　二、清洗多晶硅用超纯水处理设备的工作原理　　电去离子(EDI)系统主要是在直流电场的作用下，通过隔板的水中电介质离子发生定向移动，利用交换膜对离子的选择透过作用来对水质进行提纯的一种科学的水处理技术。电渗析器的一对电极之间，通常由阴膜，阳膜和隔板(甲、乙)多组交替排列，构成浓室和淡室(即阳离子可透过阳膜，阴离子可透过阴膜)。淡室水中阳离子向负极迁移透过阳膜，被浓室中的阴膜截留;水中阴离子向正极方向迁移阴膜，被浓室中的阳膜截留，这样通过淡室的水中离子数逐渐减少，成为淡水，而浓室的水中，由于浓室的阴阳离子不断涌进，电介质离子浓度不断升高，而成为浓水，从而达到淡化，提纯，浓缩或精制的目的。　　三、清洗多晶硅用超纯水处理设备的优点　　1、 无需酸碱再生：在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生，且需要安全储存酸碱的车间, 再生时有大量有害废水和废弃物需处理，增加了环保和安全方面的工作困难。而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作。保护了环境。　　2、 连续、简单的操作： 在混床中由于每次再生和水质量的变化，使操作过程变得复杂，而EDI的产水过程是稳定的连续的，产水水质是恒定的，没有复杂的操作程序，操作大大简便化。　　3、 降低了安装的要求：EDI系统与相当处理水量的混床相比，有较不的体积，它采用积木式结构，可依据场地的高度和灵活地构造。模块化的设计，使EDI在生产工作时能方便维护。　　四、清洗多晶硅用超纯水处理设备的技术指标　　(1) 脱盐率大于99.9%，效率远远高于两级反渗透和单纯的离子交换。　　(2) 较传统的离子交换法脱盐节约树脂95%以上。　　(3) 离子交换树脂不需使用酸碱再生，节约大量酸碱和清洗用水，降低劳动强度。　　(4) 清洁生产，无废水处理问题，利于环保。　　(5) 自动化程度高，易维护，可设计成完善的膜技术高纯水生产线。　　(6) 产水电阻率15-18MΩ.cm，pH 6.5-7.0，硅1.0ppb，彻底无菌。　　(7) 占地面积小，单一系统连续运转，不需建设备用系统。　　清洗多晶硅用超纯水处理设备不需要化学再生，可连续运行，并且不需要传统水处理工艺的混合离子交换设备再生所需的酸碱液，以及再生所排放的废水。没有环境污染，出水水质符合国家超纯水的水质标准。技术资料下载:清洗多晶硅用超纯水处理设备技术资料下载