微种植体支抗在安氏Ⅱ类1分类错牙合治疗中的应用.docVIP

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微种植体支抗在安氏Ⅱ类1分类错牙合治疗中的应用.doc

微种植体支抗在安氏Ⅱ类1分类错牙合治疗中的应用   [摘要]目的:研究微种植体支抗在安氏Ⅱ1错牙合治疗中的作用。方法:选取20例临床诊断为安氏Ⅱ1类错牙合的恒牙列患者,年龄18~29岁,平均年龄23.5岁。将患者随机分成两组:微种植体支抗组 10例(男5例,女5例),传统支抗组10例(男5例,女5例)。两组均采用拔牙矫治,拔除上、下颌四颗第一前磨牙,应用MBT直丝弓矫治技术。对两组治疗前后的X线头影测量值进行统计分析。结果:应用两种支抗方法都能使上颌切牙的唇倾度和突度发生显著而有利的改变(P0.05)。结论:应用微种植体加强支抗治疗安氏Ⅱ1类错牙合效果更显著,并且可以缩短疗程,值得临床广泛推广应用。   [关键词]安氏Ⅱ1错牙合;微种植体支抗;矫治   [中图分类号]R783.5 [文献标识码]A [文章编号]1008-6455(2014)24-2089-04   安氏Ⅱ类错牙合在青少年儿童错牙合畸形的发病率中占到20.05%[1],是较为常见的一种错牙合畸形。临床工作中常接诊到以上颌前突、开唇露齿等症状为主诉的安氏Ⅱ1错牙合患者,该类型的错牙合无论对青少年还是成人的口腔功能及美观均会造成不良影响,故应采取积极治疗。在安氏Ⅱ1类错牙合的矫治设计中常采取拔除上下颌四颗第一前磨牙[2],利用拔牙间隙内收上前牙,解决前突从而改善面型。因此,在治疗过程中十分强调支抗的控制,尤其是上颌。传统的口内支抗设计常采用Nance弓+横腭杠或口外弓等。近年来,微种植体支抗(Micro-implant Anchorage,MIA)技术作为一种特殊的支抗技术,以其支抗作用稳定、不依赖患者配合、种植体体积小、植入操作简单、创伤小等优点[3]得到广泛认可。本研究分析微种植体支抗与传统支抗Nance弓+横腭杠在安氏Ⅱ1类错牙合矫治过程中的不同应用效果,以期为临床治疗提供参考依据。   1 资料和方法   1.1临床资料:选取2010年1月~2013年12月来我院就诊的20例临床诊断为安氏Ⅱ1类错牙合的恒牙列患者,年龄18~29岁,平均年龄23.5岁。将患者随机分成两组:A组(微种植体支抗组): 10例(男5例,女5例);B组(传统支抗组:Nance弓+横腭杠)10例(男5例,女5例)。病例纳入标准:①恒牙列,磨牙、尖牙为远中关系;②骨性I类均角;③上切牙唇倾,上牙列轻度拥挤;④凸面型;⑤无颞颌关节症状。   1.2 治疗方法:两组均采用拔牙矫治,计划都是什么支抗上颌设计为强支抗。拔除上、下颌四颗第一前磨牙,应用MBT直丝弓矫治技术。A组:在排齐整平上颌牙列后,于上颌第二前磨牙、第一磨牙或上颌第一磨牙、第二磨牙之间颊侧,植入微种植钉作为支抗,上颌第二磨牙均纳入矫治,整体内收上前牙。微种植钉采用台湾亚太公司生产的自攻型不锈钢种植体(产品编号:221502),型号均为1.5mm×10mm。B组:矫治初期即采用Nance弓+横腭杠作为支抗,并将上颌第二磨牙纳入矫治,以增强支抗。   1.3测量指标:X线头影测量:颌骨:SNA角、SNB角、ANB角、GoGn-SN角、OP-SN角;牙齿:U1-SN角、U1-NA距、Apg -U1-AP距、Ptm-U6距;软组织:ULP 距、LLP距、EP-UL距、EP-LL距(如图1)。所有测量指标均为由同一研究者在相同环境下,对头颅定位侧位片定点测量。每张X线片均测量3次并取其平均值。   1.4 统计学方法:所有数据采用SPSS19.0统计学软件进行统计学处理,两组治疗前后的X线头影测量值比较采用t检验,P0.05认为差异有统计学意义。   2 结果(见表1~4)   2.1 硬组织改变:两组患者治疗后SNA角都减小。其中A组治疗后SNA角减小了0.69°(P0.05),表明应用传统支抗未能使上颌齿槽骨前部发生改建。两组患者治疗后GoGn-SN角、OP-SN角都有不同程度增大。A组患者GoGn-SN角、OP-SN角未发生明显改变(P0.05),表明应用微种植体支抗内收前牙的同时,下颌平面和牙合平面得到了较理想的控制。而B组患者治疗后GoGn-SN角、OP-SN角分别增大了1.93°(P0.01)和3.01°(P0.01),说明应用传统支抗方法在矢状向支抗控制不足,说明应用传统支抗方法支抗控制不足,导致下颌平面和牙合平面发生了顺时针旋转。   2.2 牙齿改变:A、B组治疗前后U1-SN角、U1-NA距、U1-APApg-U1距的组内比较均具有显著的统计学意义(P0.05),说明微种植体支抗组上颌磨牙近移得到很好的控制。B组治疗后Ptm-U6距由12.95mm变化为15.47mm,增大2.91mm,其差异具有统计学意义(P0.01)。此结果表明,传统支抗组上颌磨牙发生了较明显的近移,这对于需要应用最

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