电子半导体行业用水工艺流程介绍.docVIP

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2017-06-08 发布于重庆
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电子半导体行业用水工艺流程介绍.doc

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电子半导体行业用水工艺流程介绍

　　电子半导体行业用水工艺流程介绍　　半导体行业是一个高能耗的行业，在半导体产品制造过程中，由于生产设备的精密性和生产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，尤其对作为半导体行业血脉的超纯水系统更是高之又高。超纯水制造工艺中打破了传统的固定观念，将节能减排的理念充分应用到超纯水制造工艺中去。　　半导体行业水质符合美国ASTM标准 18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级，其处理工艺有：　　预处理-反渗透- 水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象　　预处理-一级反渗透-加药机 PH调节 -中间水箱-第二级反渗透正电荷反渗膜 -纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象　　预处理-二级反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象　　预处理-二级反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象北京莱特莱德水处理设备有限公司技术资料由北京处理提供