Hull Cell_3_from Eric.pptVIP

Hull Cell 應用與發展 Product Technology Eric Wei 7/2/02 內 容 Hull cell 介紹 Hull cell 於電鍍上之應用 Hull cell 之優缺點 Rotating Cylinder Hull cell 介紹 Rotating Cylinder Hull cell 之應用 結論 Hull cell 之介紹 Hull cell 於 1935年 由 R.O.Hull 提出 Hull cell 使用於分析 電鍍藥水之特性 鍍液使用體積 267ml Hull cell 裝置圖 from IPC-TM-650 Hull cell 分類 為了模擬電鍍條件, Hull cell測試時常加裝: 1.石英加熱 : 維持與現場相同溫度 2.空氣攪拌 : 鍍銅、鍍鎳之條件 3.Paddle攪拌 : 鍍錫、錫鉛時使用 Hull cell槽之材質可兩分二類: 1.壓克力 : 透明度良好,可由槽壁觀查電鍍狀況 2.PVC槽 : 鍍鉻使用,可防止六價鉻浸蝕槽壁 Hull cell槽之體積可分: 1. 267ml :一般型 , 少量液體即可 2. 250ml : 主要在歐洲使用 3. 1000ml :含外槽型 , 可做多次測試 Hull Cell 於電鍍上應用 Hull cell 能夠提供以下之應用 : 1.用於分析求不出之成份: 如:電鍍之部份添加劑 2.用於化學分析要費時間之成份: 如CVS、HPLC、IC等之取代 3.非常微量就會影響鍍層品質的成份: 如金屬離子污染 4.預知槽液未來之變化 如低電流區或高電流區之鍍層品質漸差 Hull Cell 陰極片之選擇 錫及錫鉛浴 : 銅片 硫酸銅浴 : 黃銅片 鎳浴 : 銅或黃銅片 金銀鈀浴 : 預鍍鎳片 鋅鎘浴 : 鐵片 Hull Cell試驗結果評價 1.光澤範圍: 一般最常使用Hull Cell以了解光澤範圍。 Hull cell上之均勻光澤範圍與生產線上操作有一定關係。 若光澤範圍不佳可於Hull cell 槽上調整以做為現場操作之依據。 2.鍍浴中不純物: 金屬離子污染: 低電流區部份析出暗色沉積 有機污染: 界面鍍出黑色痕跡 氧化劑污染: 低電流區漏鍍 4.Leveling power 平滑作用力 使用固定粗度砂紙磨擦Hull cell 陰極片然後進行電鍍,比較刷紋被平滑化的狀態就能了解鍍液之平滑作能力. Viafill 之評估 5.延性、硬度及脆性 光亮性度層含較多之光澤劑會造成低延展性及高脆性之表面。 可折曲Hull cell片之高電流區部份, 觀察裂縫狀況而得知鍍液之 脆性。 Throwing power Hull cell 之 優 缺 點 優點: 於非常少之電鍍藥水即可預知甚多現象 可了解大範圍之電流密度下之鍍層狀況 已成功地被使用近70年,已成溝通之工具 缺點: 無法有效控制Hull cell 槽內之質傳現象 在許多質傳因素是重點之鍍液無法有效使用 Leveling agent之評估 雜質之影響 合金電鍍中一種金屬含量甚低時 高速度電度 40ASD 以上 Rotating Hull Cell 發展之單位 : Lucent Technology Yamamoto AUTOLAB ATT Bell Rotating Cylinder Hull cell 之介紹 Professor .D.Landolt. 為解決質傳問題,將原陰極片 改成旋轉陰極 陰極與陽極之間加入一隔離板, 形成高低電流區. 旋轉陰極由上至下為:高電流區 到低電流區 依高低電流分佈狀況而觀察鍍 液品質 Current Density Distribution Rotating Cylinder Hull cell之電流分佈實際情況 電極上方為高電流區 , 電流下方為低電流區 依電極棒距長短而推測其電流密度 Lucent’s HCHC US座机电话号码 YAMAMOTO Rotating Cylinder Hull cell US 座机电话号码 Current Density DistributionYamamoto CD I 5.35-2.39 log x Yamamoto’s YMHC AUTOLAB Hull cell Current density distributionAUTOLAB ATT’S Rotating Cell US座机电话号码 ATT’s Rotating Cell US座机电话号码 Rotating Hull Cell 之應用 Throwing power 之測量 質傳對電鍍之影響 雜質污染之影響 高速電鍍之評估 由