Inoxside_training报告范本.ppt

张晓辉 2009年7月 主要内容 第一部分：电池制造流程介绍 第二部分：湿法刻蚀工艺原理 第三部分：RENA设备介绍 第四部分：软件介绍 第五部分：工艺控制及生产操作 第六部分：安全操作 电池的制造流程简述 1、硅片表面制绒：增大吸光面积 2、扩散：p-n结的形成 3、刻蚀：将硅片上下面的p-n结隔离 4、HF腐蚀：去除磷硅玻璃 5、PECVD镀膜：减少表面反射 6、丝网印刷：电池正负电极的形成 7、烧结测试：形成良好的欧姆接触并按照要求对电池进行分档 湿法刻蚀 工艺原理：Rena Inoxside刻蚀工艺主要包括三部分： 硫酸+硝酸+氢氟酸 　氢氧化钾 氢氟酸  本工艺过程中，硝酸将硅片背面和边缘氧化，形成二氧化硅，氢氟酸与二氧化硅反应生成络合物六氟硅酸，从而达到刻蚀的目的。 刻蚀之后经过KOH溶液去除硅片表面的多孔硅，并将从刻蚀槽中携带的未冲洗干净的酸除去。 最后,利用HF酸将硅片正面的磷硅玻璃去除。并用DI水冲洗硅片，最后用压缩空气将硅片表面吹干。 本工艺过程中，硝酸将硅片背面和边缘氧化，形成氧化硅，氢氟酸与氧化硅反应生成络合物六氟硅酸（H2SiF6），从而使正面与背面绝缘。 刻蚀槽中，硫酸不直接参与化学反应，因为硫酸比重高，所以用以增加溶液的张力。 刻蚀之后经过KOH溶液去除硅片表面的多孔硅，并将从刻蚀槽中携带的未冲洗干净的酸除