HT7等离子体杂质行为的研究.pptVIP

HT7等离子体杂质行为研究 研究内容和目标 碳限制器和液态锂限制器两个平台上： 低杂波功率扫描 等离子体密度扫描 六组对比曲线 ： （Zeff,CIII,OV） VS （ ,Plhw） 研究意义 Zeff影响辐射损失、等离子体电阻率、约束状态等，是等离子体聚变物理的一个基本参数，是每次HT7实验基本课题之一。 不同限制器下，研究杂质行为的异同，加深对其认识，并为East实验提供参考数据。 Zeff 与 Ne 有效电荷数Zeff反映杂质浓度： 随着等离子体密度增加，杂质的绝对量增加，但相对量减少，总的效果是Zeff减小 C是Te和PVB的函数，反映杂质的绝对含量 Zeff 与 PlhW Zeff 与PlhW成正向关系 因为功率增加，第一壁表面热通量增加（也包括低杂波天线外屏蔽罩），溅射出杂质增加 Zeff的增加使低杂波驱动效率降低 低杂波驱动电流反映低杂波驱动效率 假设等离子体斯必泽电阻基本不变 Zeff 与 液态锂限制器 液态锂限制器可以有效地吸收杂质和减少溅射，可以使Zeff降到1~2 2007年T-10上锂限制器实验： Zeff由1.4降到1.25 OII减少80% CII减少20% Zeff随PLHW的变化 两种限制器下的Zeff 杂质辐射总量没有改善 所需炮数 实验步骤 第一步： OH加热和C限制器下，密度扫描 第二步： OH加热和Li限制器下，密度扫描 第三步：LHW加热和Li限制器下，LHW扫描，（固定Ne 1.5） 第四步：LHW加热和C限制器下，LHW扫描，（固定Ne 1.5） 时间安排：以上四步连续进行，增加对比结果的可信度 预期实验结果 杂质随等离子体密度增加而减少 杂质随低杂波功率增加而增加 液态锂限制器下，C,O等轻杂质大大减小，杂质总量保持 所需诊断 ??Ha and PD array Particle confinement ??OV,CIII,LII Impurity line emission ??Visible bremsstrahung Zeff ??SXR ,ECE Sawtheeth ??Far infrared laser interferometer Ne profile ??Thomsonscatting Te 0 ??SX-PHA Te with time and Te profile XUV Radiation Power 附1-低杂波驱动效率 低杂波通过朗道阻尼机制加热电子，产生高能电子群。不消耗伏秒数，环电压下降。 低杂波驱动效率 是与波普相关的量。JT-60中 载电流快电子的扩散损失（一般是反常的）对驱动效率产生重要影响 附2-等离子体电阻 附3-液态锂限制器 Li熔点180.54℃。沸点1317℃ Li2O, Li3O2, LiH, Li2C2 ,LiOH Cps capillary porous system * HT7 2009-06-19 查文清 吴振伟 高伟 张凌 陈颖杰 HT7 2009年HT7冬季实验 （5+7）x 2 / 0.5 48 （炮） 限制器：碳、液态锂 欧姆加热时，密度扫描：Ne 1:0.5:4.0 Ne 1.5时，低杂波功率扫描：Plhi 0:100:400 KW 放电有效率：50% 其他条件：Bt 1.8T,IP 120KA 1，等离子体Spitzer电阻率： 试验中，不同炮的温度Te相差不大，电阻率保持相对恒定 * HT7