Nano-AEM-3.pptVIP

透射电镜 透射电镜的结构和成像原理 由电子光学系统、电源与控制系统及真空系统三部分组成。 1-照明源；2-阳极；3-光阑；4-聚光镜；5-样品；6-物镜；7-物镜光阑；8-选区光阑；9-中间镜；10-投影镜；11-荧光屏或照相底片/CCD a)透射电子显微镜 b)透射光学显微镜 照明系统 由电子枪、聚光镜和相应的位置调节装置组成。 电子枪 热阴极电子枪 发夹形钨丝或LaB6 阴极、栅极和阳极组成 场发射电子枪 选用的阴极材料必须是高强度材料，例如单晶钨。 冷场发射(Cold Field Emission)：电子束直径小，亮度高，能量散布小 ，但总电流较小。 热场发射(Thermal Field Emission) ：在~1800K下工作，不需要定时去除吸附气体，发射电流稳定性较佳，但能量散布稍大。 肖特基发射(Schottky Emission)：工作温度~1800K，发射电流稳定性好，电流也大，其能量散布也小。 聚光镜 用来会聚电子枪射出的电子束，调节照明强度、孔径角和束斑大小。 一般用双聚光镜系统。第一聚光位是强励磁透镜，而第二聚光镜是弱励磁透镜。 成像系统 将穿过试样的电子束在透镜后成像或成衍射花样，并经过物镜、中间镜和投影镜接力放大。 物镜：用来形成第一幅放大的图像或电子衍射花样；强励磁短焦距 。 中间镜：用来进一步放大或缩小物镜像；弱励磁的长焦距 投影镜：把经中间镜的像进一步放大，并投影到荧光屏上；景深和焦长大。 观察记录系统 荧光屏 底片感光 CCD感光 电子衍射模式 高倍放大模式 重要部件 样品台 光阑 聚光镜光阑 作用是限制照明孔径角 。一般分析观察时，光阑孔直径可用200-300um；若作微束分析时（EDS分析），则应采用小孔径光阑。 光阑 物镜光阑 阻挡一部分散射电子，形成具有一定衬度的图像。 在后焦面上套取衍射束的斑点成像，形成暗场像。 选区光阑 使电子束只能通过光阑孔限定的微区，实现对这个微区进行衍射分析。 选区光阑一般都放在物镜的像平面位置。 抗污染光阑 TEM样品的制备方法 样品的基本要求 : 样品应具有适当的厚度。 样品的组织结构必须和大块样品相同。 样品能承受电子束的辐射，而不发生性质的改变。 金属样品制备过程中应避免表面氧化和腐蚀。 金属薄膜样品的制备 从大块样品切割薄片（厚度：0.3-0.5 mm）。 电火花线切割法 被切割的样品作阳极、金属丝作阴极，两极间保持个微小的距离，利用产生的火花放电进行切割。 样品薄片的预减薄。 机械减薄 通过手工或机械研磨来完成。 化学减薄法 用化学试剂来腐蚀。减薄速度很快，表面没有机械硬化层，薄化后样品的厚度可控在20-50um。 金属薄膜样品的制备 最终减薄 双喷电解抛光法 样品两个表面的中心部位各有一个电解液喷嘴。从喷嘴中喷出的液柱和阴极相接，样品和阳极相接。如果样品经抛光后中心出现小孔，光控元件就会将抛光线路的电源切断。 无机非金属薄膜样品的制备 首先采用金刚石刃内圆切割机切薄片。 对薄片进行机械研磨预减薄。 最后进行离子减薄。 离子束在样品的两侧以一定的倾角（5 -30度）轰击样品，使之减薄。 粉体和纤维样品