三氯氢硅生产注事项.docVIP

目前，国内外应用最广，最主要的制备超纯硅的方法，是以三氯氢硅为原料，（即改良西门子法）。故三氯氢硅的合成在半导体材料硅的生产中引起了广泛注意，并取得不少成果。3 r4 J. I8 {- O% e5 c三氯氢硅和四氯化硅的结构、化学性质相似。因此，它们的制备方法基本相似，只是前者用氯化氢气体代替氯气进行反应，在方法、设备、工艺操作等方面有共同之处，本章只介绍其特性。/ n9 C2 r- z) r三氯氢硅的制备方法很多，如：6 F- B( @. L8 W3 }) }1）用卤硅烷和过量的氢或氯化氢的混合物通过Al，Zn，或Mg的表面。$ }1 g??B( Q. O/ R+ j% n% h2）以氯化铝作催化剂，用氯化氢气体氯化SiH4。+ P9 l$ j# p/ i- a3）在高温下用氢气部分还原SiCl4。6 k5 `8 P1 w+ g+ \, W) Y4）用干燥氯化氢气体氯化粗硅或硅合金。0 M) m, A. P3 s/ a! s) j k前三种方法产率低、过程繁、产品沾污机会多、实用价值很小。因此，工厂和试验室多采用第4种方法制备三氯氢硅。+ w5 D, |1 R4 X% ]第一节 三氯氢硅的性质) A; D! W- [! F; q$ u? ?三氯氢硅（SiHCl3）又称三氯硅烷或硅氯仿。三氯氢硅是无色透明、在空气中强烈发烟的液体。极易挥发、易水解、易燃易爆、易溶于