光生阴极在腐蚀防护中的研究进展资料.ppt

光生阴极保护在腐蚀防护中的研究进展 研究背景 金属的腐蚀在自然界广泛存在，它不仅造成大量的经济损失，并且造成一系列的环境污染甚至重大事故。传统的金属防护技术，如阴极保护、有机涂层具有许多缺点，包括材料的消耗，能源的浪费和环境污染。最近，发现半导体材料的金属涂层可以提高在可见光的耐蚀性，在光照下，半导体涂层为耦合金属基体提供光生电子实现光阴极保护。这项利用太阳能对金属阴极保护的新技术得到了广泛地关注。 光生阴极保护原理 TiO2薄膜在金属防腐蚀中的作用示意图 存在的问题 目前主要采用TiO2及其复合膜作为金属的防腐蚀覆盖膜,其存在的关键问题TiO2的禁带宽度为3.2eV，带隙能较高，在波长小于387nm 的光（紫外光）照射下，才能被激发产生光生电子空穴对，而太阳光中紫外光所占比例极小（足5%），由此导致其不能有效利用太阳光。第二，激发产生的光生电子-空穴对大部分会在半导体体内或表面重新复合，降低了光量子效率。 存在的问题 解决思路 目前解决这两大问题有效方法之一就是通过半导体复合对TiO2进行改性一是扩大吸收光的范围,如在TiO2纳米膜掺杂过渡金属如(Fe2O3)可以使膜在可见光范围内有吸收,二是减缓电荷复合,如在TiO2膜层下首先构筑一层Fe一TiO2复合膜可以减缓电荷复