毕业论文--EDA和KCl双掺杂下KDP溶液稳定性及晶体生长的实验研究.docVIP

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  • 2016-10-20 发布于贵州
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毕业论文--EDA和KCl双掺杂下KDP溶液稳定性及晶体生长的实验研究.doc

毕业论文--EDA和KCl双掺杂下KDP溶液稳定性及晶体生长的实验研究

EDTA和KCl双掺杂下KDP溶液稳定性及晶体生长的实验研究 摘要 KDP磷酸二氢钾KH2PO4晶体是一种性能优良的电光非线性光学晶体具有较大的电光非线性系数较高的激光损伤阈值S≥115时成核方式为均匀成核S 115时非均匀成核占主导地位另外通过表面熵因子的计算发现在本实验条件下KDP晶体的微观生长机制为连续生长模式 ③ 进行了不同掺杂情况下KDP晶体的生长实验并测定了KDP晶体100面的生长速度分析了晶体100面的生长速度与不同过饱和度不同掺杂浓度的关系最后结合晶体生长动力学分析了晶体100面的生长机制研究发现掺杂能适当提高KDP晶体100面的生长速度同时确定了KDP晶体100面的生长机制为二维成核生长机制通过结晶动力学分析可知掺杂在一定程度下能提高100面的生长速度这与实验结果符合 ④ 利用化学腐蚀法对不同掺杂条件下生长出来的KDP晶体100进行了腐蚀得到位错蚀坑并用光学显微镜观察了晶体表面的位错蚀坑的分布情况分析了位错与溶液稳定性的关系结果分析表明位错密度随过饱和度增加而增大而且当过饱和度为4掺杂浓度为001molEDTA和1molKCl时不仅KDP过饱和溶液的稳定性比较高而且位错蚀坑的分布比较均匀密度小适合高质量的KDP晶体生长 关键词KDP晶体双掺杂稳定性成核位错密度 ABSTRACT The potassium dihydrogen thophosphate KH2

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