激光技术第一讲解析.ppt

激光技术-第一讲 一、调制的基本概念 1.目的：通过调制进行信息的传递 2.调制：把信息加到载波的过程即调制 定义：利用调制信号去改变载波的某一参数，使其参数按调制讯号的规律发生变化的过程。 二．激光调制 1.激光调制：利用激光作为载波进行调制的过程 激光频率高，可利用的带宽很宽 单色性好，发散角小 3)具有较好的时间相干性和空间相干性 2.调制器：完成激光调制的装置 优 点：调制效率高 缺 点： a. 调制带宽受到泵浦源和谐振腔参数的限制 b. 调制器放在腔内，增加腔内的损耗,降低了平均输出功率 优 点： a.因为调制器和激光形成无关,不影响激光器的输出功率 b.调制带宽不受谐振腔参数的限制，适于高速调制 缺 点：调制效率相对较低 4.1.1 振幅调制 (1) 定义：以调制信号去改变激光的振幅，使其振幅按调制信号的规律变化 调制前： 调制信号： 调制后： 调幅系数： (2)调幅波的频谱分析 总相位： 调频和调相以后使总相位?(t)变化——按调制信号的规律变。因此两者可归为一类，两者的差别是实现方法不同。 调相： 调频 ： 2.频谱 调频和调相实质上最终都是调制总相角，因此可以写成统一的形式 4.1.3 强度调制 (1)定义:以调制信号去改变激光的光强，使光强按着调制信号的规律变化的过程。 4.1.4 脉冲调制 1. 脉冲调制的概念 在目前的光通信中，广泛采用一种在不连续状态下进行调制的脉冲调制和数字式调制（也称为脉冲编码调制）。它们一般是先进行电调制（模拟脉冲调制或数字调制），再对光载波进行光强度调制。 4.2.1 电光调制器的物理基础 利用晶体的电光效应－晶体光学中已经讲过。 1.自然双折射－o光、e光 2.电光效应 如果在晶体中沿某一方向加一定电压，则晶体的折射率要发生相应的改变，因而晶体的双折射特性也要改变－电光效应 4.2.2 电光强度调制器 1. 纵向电光调制器 晶体的运用方式两种： 纵向运用：加场的方向和通光的方向都沿z方向。 横向运用：加场的方向和通光方向垂直。 纵向运用的结构和原理 2．横向电光调制 1．KDP类的横向运用（三种） 现以KDP类的第一种运用方式为例进行讨论: 强度调制中，影响输出光强的主要因素是??，入射光的偏振方向和x?轴成45°角（在x?oz平面内） 由于在z向加电场，所以三个感应主轴的折射率和纵向运用相同。 由于沿y’方向通光，光在晶体中分解为沿x’和z方向振动的两束光。 e，o光的折射率: 这两束光通过晶体后的位相差为: 4.2.3 电光相位调制器 相位调制即是用调制信号的规律来改变激光振荡的相位角。由起偏器和KDP电光晶体组成，起偏器的偏振轴平行于晶体的感应主轴x?，电场沿z方向加到晶体上，入射晶体的线偏振光不再分解，沿x?轴一个方向偏振，外电场不改变出射光的偏振状态，仅改变其相位。 相位调制器的结构 x?轴折射率为： 4.2.4．电光波导调制器 1.体调制器：前面讲的各种电光调制器，具有较大体积尺寸的分离器件。 特点：几乎整个晶体材料都受到外加电场的作用，需要较强的电场（缺点） 2.光波导调制器： (1)定义：把激光器、调制器、探测器等有源器件“集成”在同一衬底上，并通过波导、耦合器等无源元件连 接起来，构成一个完整的微型光学系统。 (2)分类： 光波导调制器的特点： a.加电场的区域很小，薄膜附近。薄膜厚度微米量级。驱动功率比体调制器小1-2个数量级。材料的要求：至少有一 种满足调制器的要求，材料有确定的相对固定的折射率。 b.利用电光、声光控制时，折射率的变化，使两传播模间有一相位差。与体调制器不同的地方：由于外场的作用导致波导中本征模（如TE模和TM模）传播特性的变化以及两 不同模式之间的耦合转换（模耦合调制）。 2.电光波导调制器的调制原理 通常可简化：如果波导中电光材料均匀，加电场均匀。TE，TM完全限制在波导薄膜层中，阶次相同，m=l，这时积分取极大值。这时，TE模和TM模的场分布几乎相同，仅电矢量的方向不同。且 如果相位匹配 ，则 要获得完全的TE?TM功率转换，必须满足： 无转换时： 波导调制器的输出光强(TM)与输入光强之比为： d-波导薄膜厚度 2.电光波导相位调制 设传播的波为TM波，电场方向Ez，相位变化： 对于电光波导相位调制，不存在不同模之间的互耦合。 3.电光波导强度调制 在LiNbO3晶体作为波导基片的沉底上，用射频溅射刻蚀法制造Ti扩散分叉条状波导，条状波导中间和两侧制作表面电极。两个分路的光在电光效应区受到相位调制，它们再相遇时，