光刻胶的分类与效果描述.pptVIP

1. 图相转移技术（光刻）的基本知识： 光刻工艺是指将掩膜版上的图形转移到衬底表面光刻胶上的技术--------要求高精度尺寸转移,确定光刻工艺条件,必须以图形尺寸变化量的大小为重要依椐之一. 衍射是影响图形尺寸变化的重要原因。 光源: 汞灯：e线——546nm h线——406nm g线——436nm i线——365nm UV——248nm EB——埃量级 最小特征尺寸：△L＝K1 λ／NA λ（波长），NA（透镜的数值孔径） K1 与工艺参数有关(一般取0.75) *要注意光刻胶所要求的 光源波长;短波长适用于 小尺寸. NA（数值孔径）： 对于一个理想的镜头系统，图像的质量仅仅受到由于NA的大小有限而造成衍射光不能通过镜头。 透镜收集衍射光并把这些衍射光会聚到一点成像的能力用数值孔径来表示。 NA ≈（n）透镜的半径／透镜的焦长 消衍射光学系统:衍射可引起转移尺寸的变化 反转胶: 通过两次光照,用负胶版得到正胶版的图形,解决正胶版难对版的问题,但