复习半导体物理概要.pptVIP

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  • 2016-11-25 发布于湖北
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复习半导体物理概要

双极晶体管的单管结构及工作原理 双极器件:两种载流子(电子和空穴)同时参与导电 正向工作区 发射结正偏,发射极发射电子,在基区中扩散前进,大部分被集电极反偏结收集: ( 接近于1) 具有电流放大作用: 1. 发射结正偏,向基区注入电子,集电结也正偏,也向基区注入电子(远小于发射区注入的电子浓度),基区电荷明显增加(存在少子存储效应),从发射极到集电极仍存在电子扩散电流,但明显下降。 2.不再存在象正向工作区一样的电流放大作用,即 不再成立。 3. 对应饱和条件的VCE值,称为饱和电压VCES,其值约为0.3V,深饱和时VCES达0.1~0.2V。 当VBC0 , VBE0时,为反向工作区。工作原理类似于正向工作区,但是由于集电区的掺杂浓度低,因此其发射效率低, 很小(约0.02)。 常用集成电阻器 基区扩散电阻 发射区扩散电阻、埋层扩散电阻 基区沟道电阻、外延层电阻 离子注入电阻 多晶硅电阻、MOS电阻 MOS晶体管的电流-电压特性的经典描述: 萨氏方程 式中的λ是沟道长度调制因子,表征了沟道长度调制的程度 自举反相器 [例题]设计一个倒相器

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