2011工艺基础概论.doc

扩散工艺基础试题 姓名 1 同样的基区离子注入量，扩散结深做得较深时，R□值将变 。 2 同样的扩散结深，离子注入量减小时，R□值将变 。 3 某NPN产品，基区扩散时H2未通进，其余条件正常，所造成的后果是 和 。 4 基区离子注入量发生了较大变化，其余工序正常加工，流程到哪几步可以根据哪三个参数的什么现象判别出注入量发生了如何的变化？ 5 其余条件不变，发射区再扩散条件如何变化造成hFE增大？ 6 发射区再扩散条件不变，其余哪些条件变化对hFE构成影响？什么样的影响？