光学分析方法.ppt

电子材料分析 一、光谱分析法 原子光谱分析： 原子发射(OES) 、 原子吸收(AAS)、原子荧光(AFS) 分子光谱分析： 紫外－可见光光谱法(UV-Vis)、 红外光谱法(IR) 二、 X射线分析法 X线荧光光谱法XRF 电子探针微分析EPMA 三、 表面分析方法 俄歇电子能谱AES X线光电子能谱XPS 二次离子质谱SIMS 教学思路：概述、原理、仪器、方法、应用 教材：二本讲义 要求：上课、习题 考试：闭卷，以上课内容为主 教师：黄曜 材料一楼512室 yaoh@fudan.edu.cn 助教：吕平，材料一楼311室 11210300007@fudan.edu.cn 参考书： 1. 《原子光谱》 邱德仁，复旦大学出版社，2002年 2. 《分光光度分析》罗庆尧，科学出版社，1992年 3. 《X射线光谱分析》谢忠信，科学出版社，1982年 4. 《表面分析》华中一，复旦大学出版社，1987年 5. 《无机质谱概论》赵墨田主编，化学工业出版社，2006年 6. Modern Methods for Trace Element Determination C.Vandecasteele and C.B.Block 一、学这门课的意义 课程性质：应用 了解原理、方法 → 应用这些方法解决实际问题。 应用实例： 1. 产品研发： 原材料 → 材料 → 工艺 → 元器件 → 系统 → 应用 2. 工业生产： 几亿-几十亿晶体管数/人→ IC 光刻 20次 → 每次合格率99.9999% → 最终合格率(99.9999%)20 → 几乎为0 3. 论文制作：引言 → 实验 → 测量与分析 → 结论 二、如何进行分析 E.B → I.B → L.B → X.B → IR → Vis → UV → 原子：发射、吸收、荧光 光谱 分子：红外吸收、紫外吸收、发射、拉曼 X射线：荧光、电子微探针 能谱 表面：俄歇电子、光电子 质谱：磁质谱、四极杆质谱、飞行时间质谱 扫描电镜 SEM 结构 透射电镜 TEM： 几十万倍放大，分辨率最高，显示原子点阵 X衍射 XRD 光学分析法 什么是光学分析法： 作用： 透射/ 吸收/发射/反射/折射/散射/衍射/干涉/偏振等 一、电磁辐射的性质 1、什么是电磁辐射？ 电磁辐射的范围：γ射线－无线电波 电磁辐射的性质 3.电磁辐射的性质 （1）粒子性：描述光的个体行为。 原子有不同的分立的能级， 发射或吸收一个光子： ΔE=hν，单位：J，eV ； 电磁辐射的强度 与光子数有关 1 mol 物质： E=hνNA 光学分析法的定量基础 电磁辐射 （2）波动性：主要描述光的集体行为， 如运动轨迹、传播方式 反射、折射、散射、干涉、衍射、偏振 4. 描述电磁辐射的参数： 周期 T（s）； 频率υ： （s-1，Hz）； 波长λ（nm、cm……）；波数σ: （cm-1）； 速度 v（光速 c）； 折射率 6.电磁波谱：电磁辐射按λ/ν大小排列 二、光学分析法及其分类 1.光学分析法： 光谱分析法分类 B. 分子光谱：分子外层电子能级跃迁以及分子振动 和 转动能级间跃迁 特征：带光谱 紫外—可见光谱(UV-Vis) ， 红外光谱 (IR) 分子荧光光谱(MFS)， 分子磷光光谱(MPS)等。 （2）非光谱法（波动性）：物质 辐射 其传播方向、速度或物理性质发生了改变。 如：折射、散射等 光学分析法分类