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镀膜材料基础知识 １：光学薄膜材料 １.１：光学薄膜的基本要求 １.１.1：透明度 １.１.２：折射率 １.１.3：堆积密度 １.１.4：散射 １.１.5：薄膜均匀性 １.１.6：机械性质，硬度，附着力及应力 １.１.7：化学稳定性 １.１.8：辐射能量的承受 １.2：常用光学薄膜的制镀与特性 1.2.1：金属 1.2.2：氧化物 １.3：毒性 TiO2材料在真空中加热蒸发时因分解而是失氧，形成高吸收的亚氧化钛薄膜TinO2n-1(n=1…10),故常采用溅射技术。 在离子氧中蒸发低价氧化物TiO,Ti2O3和Ti3O5获得了优良的TiO2膜。TiO的熔点既低于金属钛,又低于TiO2,可以用电子束或者钨舟进行蒸发.由于TiO严重缺氧,所以需在较高的气压(3*10-3pa)和较低的蒸发速率(0.3nm/s)下沉积. 采用电子衍射确定不同基板温度下多晶TiO2膜的结构表明:当基板温度Ts380℃呈金红石,膜层折射率增加,吸收增大.在中性氧中制备的TiO2膜,其消光系数比离子氧中得到的高10倍左右. Ti2O3的热性质比较稳定,蒸发过程中吸氧作用很强.通过选择适当的参数,不难获得折射率2.2—2.3的无吸收TiO2膜.由于它的缺氧情况比TiO要好,所以蒸发速率可以适当提高(约0.5nm/s).Ti2O3做初始材料时,在中性氧的