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铜的电化学腐蚀 原子力显微镜：多模式原子力显微镜LS 测量模式：动态力 悬臂：NCLR附加设备：CH仪器（电化学分析仪） 拿出铜金属块（工作电极），用弹簧线夹夹取电触头，将弹簧电夹远离溶剂以防止电池引线被腐蚀。再将银/银氯和反电极插入电池中。所有的电极都放入100毫米的氯化钠溶液中。 铜金属在动态力模式中的形态图如图1所示。开路电位为-0.347V，塔菲尔和点蚀腐蚀的测量结果用来决定点蚀的电位。正极为0.6V的电位在开始一分钟内被用到。形态图如图2所示，形态方面的变化在图中可以看到，在接下来的几分钟内电位的应用，所以我们能够看到溶液中有气泡产生。形貌图3的不同在于铜的电化学刻蚀导致物质从金属表面脱离出来，在其表面留下了许多细小的颗粒。移动颗粒的沉淀物在形态图中可以看到。在接下来的一分多钟里应用0.6V的电位，由于刻蚀材料的干涉，形态不可能形成云状溶液以掩盖激光束。该阶段铜金属被拿出并放在溶液里彻底的清洗，再次做原子力显微镜测量，现在表面形态呈现出许多的点（图4）。点的直径和深度在图中可以找到……. 同样的实验可以在SS（钢结构）金属在+1V下进行应用，甚至我们可以看到（图5,6）在形态上，10分钟之后都没有变化及产生抗腐蚀现象。 图1:（在氯化钠中刚开始时的形貌图） 开始时的铜-氯化钠-向前扫描，形貌图（1/6） 图2:化学切边之后在600毫伏下75秒钟内的的形貌图