2硅片材料制备和特性要求.docVIP

第二章 硅片材料制造技术 3.1 硅材料制备 硅（Si）是地壳矿物中储量第二位的矿物元素，约为28%，总是与其他元素（特别是氧）以化合物的形式存在。由于庞大的硅矿物储量，和现有的科学技术以及过去几十年建立起来的工业环境，使硅成为最容易得到的半导体材料，也是人类迄今研究最深，了解最清楚的物质。 3.1.1 冶金硅 自然界中硅矿石（又叫做硅石）绝大多数以SiO2的形态（石英晶体或石英砂）存在。开采出的硅矿石经过分选、脱除矿泥后就得到可供冶炼的硅矿石原料。硅矿石经过冶炼还原便得到冶金硅，纯度可以达到 99.5%以上。冶炼的反应过程如下： SiO2 + 2C → Si + 2CO↑ （1） 冶炼使用冶金焦碳，冶炼过程中释放出CO，CO2，SiO等副产物，在通入空气的条件下，气体副产物为二氧化碳、水汽、二氧化硅、氮氧化物等。固体副产物为富含二氧化硅的炉渣。这种冶炼方法可以达到80%左右的产出率。 3.1.2 硅材料提纯 冶金硅含有太多的杂质，还不能作为半导体材料应用。半导体硅材料，又叫做电子级硅材料，纯度要求达到7个9以上（硅含量大于99.99999%），对影响非平衡少数载流子寿命的深能级杂质，以及碳、氧含量都有控制要求。 电子级硅