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- 2016-12-05 发布于广东
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* * 1.3 MOSFET原理 衬底偏置效应(2) 衬底偏压 反型条件 耗尽层电荷 VSB0,源区电势能= -e(VD+VSB) * * 1.3 MOSFET原理 衬底偏置效应(4) VSB的存在使负的耗尽层电荷更多,VT增加,且VSB越大,VT越大 * 1.3 MOSFET原理 衬底偏置效应(5) * 1.3 MOSFET原理 衬底偏置效应(6) * 1.3 MOSFET原理 背栅定义 衬底能起到栅极的作用,称“背栅” VBS改变了耗尽层和反型沟道层的电荷分配之比,从而控制了IDS。 VGS若不变,VBS变化,使耗尽层宽度变化,耗尽层电荷变化,反型沟道电荷变化,则漏电流变化。 * 1.3 MOSFET原理 衬底跨导 衬底跨导gmb:VGS和VDS为常数时,ID随VBS的变化率 * 1.3 MOSFET原理 需掌握内容 衬底偏置效应的电位连接 P衬最低电位,n管阈值上升 N衬最高电位,p管阈值更负 衬底偏置效应对MOSFET的影响和物理过程 衬底“背栅”定义和物理过程 * END 据
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