14.功能薄膜技术分析.pptVIP

* * * * * * * * 濺射是指荷能粒子(如正離子)轟擊靶材，使靶材表面原子或原子團逸出的現象。逸出的原子在工件表面形成與靶材表面成分相同的薄膜。這種製備薄膜的方法稱為濺射成膜。 濺射和蒸發成膜的相同之處在於，它們都是在真空中進行。但是蒸發制膜是將材料加熱汽化，濺射制膜是用離子轟擊靶材，將其原子打出。 相比較之下，濺射的條件較蒸發要複雜些，沉積參數的控制也要難一些，因此應用不如蒸發普遍。但是，濺射技術也有比蒸發優越的地方，例如不存在膜材的分餾，不需加熱至高溫就能沉積耐熱合金膜，可以通過向真空系統中添加所需要的反應氣體來製備摻雜膜或氧化物膜，還可製備超高純的薄膜等。 * 離子鍍是Mattox在1963年提出來的，當時主要用於解決宇航滾動軸承鍍金的問題，經過40多年的發展，離子鍍已經稱為一種重要的鍍膜技術。 所謂離子鍍是在鍍膜的同時，採用帶能離子轟擊基片表面和膜層的鍍膜技術。離子轟擊的目的在於改善膜層的性能。 離子鍍是鍍膜和離子轟擊改性同時進行的鍍膜過程，無論是蒸鍍還是濺射都可以發展為離子鍍。 離子鍍膜是目前真空鍍膜技術中最新、最先進的表面工程技術之一，它具有以下優點： 入射離子能量高，與基體的結合強度高，膜層緻密，耐久性好，膜層硬度高（氮化鈦膜顯微硬度達Hv2000以上），耐磨性好(用於刀具表面強化，壽命可以提高3－10倍)，耐蝕性好； 與其他表面處理工藝結合使用效果更佳，比如在A3鋼基體上先鍍制過渡層後在鍍制黑色氮化鈦膜，耐磨性和耐蝕性大幅度提高； 可鍍基材廣泛，可同時在不同金屬材料的表面成膜，膜層的顏色均勻一致，成膜溫度低（幾乎可在常溫下成膜）而熱穩定好(600oC時膜層不脫落，不起皮)； 用多弧離子鍍膜工藝鍍制的黑色氮化鈦膜對光的吸收效率達90%以上，膜層隱蔽性好 鍍膜過程無環境污染。 因此，這種方法應用十分廣泛。 * 這是一種離子鍍的裝置。將基片放在陰極板上，在基片和蒸發源之間加高電壓，真空室內充入1.3×10-2-1.3Pa放電氣體。與放電氣體成比例的蒸發分子，由於強電場的作用而激發電離，離子加速後打到基片上，而大部分中性蒸發分子不能加速而直接到達基片上。 * 4）三溫度蒸發； 實際上是雙源蒸發。對不同蒸氣壓元素，對蒸發溫度，蒸發速率和襯底溫度分別控制，在襯底表面沉積成膜。 5）熱壁法： 利用加熱的石英管（熱壁），將蒸發源蒸發出的分子或原子，輸向襯底成膜。是外延薄膜生長的發展。 6）分子束外延(MBE) 分子束外延是以蒸鍍為基礎發展起來的技術。 指在單晶基體上成長出位向相同的同類單晶體（同質外延），或者成長出具有共格或半共格聯繫的異類單晶體（異質外延）。 外 延（epitaxial growth, epitaxy） 濺射成膜 濺射成膜 濺射是指荷能粒子(如正離子)轟擊靶材，使靶材表面原子或原子團逸出的現象。逸出的原子在工件表面形成與靶材表面成分相同的薄膜。 優點和缺點 參數控制較蒸發困難 但不存在分餾，不需加熱至高溫等。 濺射與蒸發的異同點 同：在真空中進行 異：蒸發制膜是將材料加熱汽化 濺射制膜是用離子轟擊靶材，將其原子打出。 離子鍍 離子鍍 在鍍膜的同時，採用帶能離子轟擊基片表面和膜層的鍍膜技術。離子轟擊的目的在於改善膜層的性能。 離子鍍的優點 入射離子能量高，與基體的結合強度高，膜層緻密，耐久性好，膜層硬度高，耐磨性好，耐蝕性好； 與其他表面處理工藝結合使用效果更佳 可鍍基材廣泛，可同時在不同金屬材料的表面成膜，膜層的顏色均勻一致，成膜溫度低而熱穩定好； 膜層隱蔽性好 鍍膜過程無環境污染 離子鍍 離子鍍裝置 將基片放在陰極板上，在基片和蒸發源之間加高電壓，真空室內充入1.3×10-2-1.3Pa放電氣體。與放電氣體成比例的蒸發分子，由於強電場的作用而激發電離，離子加速後打到基片上，而大部分中性蒸發分子不能加速而直接到達基片上。 熱蒸發氣相沉積法又叫真空蒸鍍方法，它是在真至下加熱蒸發材料(蒸鍍材料)．使其蒸發粒子沉積在基板表面形成薄膜的一種方法．按照加熱方式，熱蒸發氣相沉積方法分為電阻加熱、閃電加熱、鐳射加熱和電子束加熱等真空蒸鍍方法，其中電阻加熱方法是最常用的方法，它是用鎢、鉑等燈絲直接加熱蒸發材料，或者把蒸發材料放在坩堝裡間接加熱，高熔點材料一般用電子束加熱方法，石墨等物質用電弧沉積方法． * * * * * * * * *