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第八章 配合物的制备
利用配体取代反应合成配合物
1、水溶液中的取代反应
室温直接反应
[Cu(H2O)4]SO4 + 4NH3 [Cu(NH3)4]SO4
不适合与Fe3+、Al3+、Ti4+
2)惰性配合物要求苛刻的条件
3) 有时被取代的配体不止一种,如:
[Co(NH3)5Cl]Cl2 + 3en [Co(en)3]Cl3 +5NH3
4) 有时可得到部分取代的配合物:
K2[PtCl4] + en [Pt(en)Cl2] + 2KCl
2、非水溶剂中的取代反应
使用非水溶剂的原因:
A、防止水解(如Fe3+、Al3+、Ti4+);
B、使不溶于水的配体可溶解;
C、配体的配位能力不及水。
1) [Cr(en)3]Cl3的合成
在水中反应时
CrCl3.6H2O + en Cr(OH)3↓
可在乙醚中,按如下方法合成:
2)[Ni(phen)3]Cl2(phen为邻菲咯啉)
在乙醇中反应
NiCl2·6H2O + phen [Ni(phen)3]Cl2
3)[Ni(EtOH)6](ClO4)2的合成
在水溶液中:
[Ni(EtOH)6]2+ + H2O [Ni(H2O)6]2+ + EtOH
3、固体配合物热分解(固态取代反应)
1)[Cu(H2O)4]SO4.H2O = [CuSO4]+5H2O (加热)
2)2[Co(H2O)6]Cl2 = Co[CoCl4] +12H2O (加热)
变色硅胶的原理(粉红、蓝色)
3)[Cr(en)3]Cl3 = cis-[Cr(en)2Cl2]Cl + en (210℃)
4)[Pt(NH3)4]Cl2 = trans-[Pt(NH3)2Cl2] + 2NH3 (250℃)
4、金属取代反应
利用氧化还原反应合成配合物
1、金属的氧化
最好的氧化剂是O2或H2O2,不会引入杂质。
例:[Co(NH3)5Cl]Cl2的合成
2、金属的还原
N2H4;NH2OH(产物为N2,不污染产物)
[Pt(II)(Ph3P)2Cl2] + Ph3P + N2H4 [Pt(0)(Ph3P)4]
Rh(III)Cl3 + Ph3P [Rh(I)Cl(P3Ph)3] + O=PPh3
第三节 利用催化反应制备配合物
1、[Co(NH3)6]Cl3的合成(多相催化)
2、Pt(IV)配合物的催化合成
3、[RhCl2Py4]Cl的催化合成
第四节 利用配体的反应制备配合物
已配位的配体常常表现出它们特有的反应
(1) [Cl2Pt(PCl3)2] + H2O [Cl2Pt(P(OH)3)2]
(2)Ni(PCl3)4 + SbF3 Ni(PF3)4
第五节 几何异构体的制备
1、利用反位效应合成几何异构体
对于Pt(II),反位效应顺序为:
CN? ~ CO ~ C2H4 PH3 ~ SH2 NO2? I? Br? Cl?
NH3 ~ Py OH? H2O
[PtCl(NO2)NH3(MeNH2)] 三种异构体的制备:
2、利用反应本身的选择性进行合成
如氧化加成反应:
[Pt(NH3)4]2+ + Cl2 trans-[Pt(NH3)4Cl2]2+
同样,用Br2和H2O2作氧化剂时,分别得到反式的二溴或二羟基配合物。
顺式-[Pt(NH3)4Cl2]Cl2的合成:
* a步反应的选择性并非源于平面正方形配合物的反位效应。
3、利用异构体溶解度的差别进行分离。
如:cis-[Rh(en)2Cl2]+及trans-[Rh(en)2Cl2]+
第六节 旋光异构体的制备
先制备外消旋体,然后进行拆分。
例:[Co(en)3]3+旋光异构体的制备:
第七节 金属羰基化合物的合成
1、金属粉末与CO直接反应
2、还原—羰基化反应
3、由其它羰基化合物制备
第八节 二茂铁的制备
1、环戊二烯钠与氯化亚铁反
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