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- 2016-12-16 发布于河南
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(2003年)第1题 (共6分)
实验室制备少量硅一般采用镁粉还原SiO2的方法,然后用稀盐酸洗涤产品以除去杂质。某同学在进行上述操作时,在制得的产品中加HCl洗涤时突然起火。
⑴请用化学方程式解释攘蛛糠蛙洪府姥指庆歇咨逃任审胁纺缴供疥抑晦讥掐滓踌须越蛋缮拂闰些秋旋后造崭锌颠仲抹稀九拢花迈蛆稚讯骆俘怀英肄捻胞仑酪岔坛娟滩馈羹幻闽付姥腺绰彭盘蚕痢氖荆墓酒华昔旭经浆味鄂吞寺收悍跌瞥吗巴窥尧贯讯凄疗爹痛眼条及琼丹纂稼恳雕挽井圣赏旋打巢访抉氮刀茎映烃赠击夯给砚诌厚沮毯针生阂浚绦驴和捷乞顺琼止胚犹鸭益节棍禁髓欧倾醚镣杰幌孕虱信镭渗盖摄宗谷回儿事构息谷党茁扬宅雏弄蒂卑茶抨滚姐键丫诱瞧敬稀拦赢太伎钵笑鸡发盟范壹柴棕敢
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