玻璃深加工设备研讨.ppt

中空玻璃 减反射玻璃 5 玻璃钢化设备 采用将玻璃加热，然后迅速冷却的方法，以增加玻璃的机械强度和热稳定性的方法称为物理钢化法。由于采用了加热及吹风冷却，通常称之为热钢化法或风钢化法。 用化学方法改变玻璃表面组分，以增加玻璃的机械强度和热稳定性的方法称为化学钢化法。由于它是通过离子交换使玻璃增强，又称为离子交换法。 物理钢化法根据生产过程中玻璃的支撑办法又可分为垂直吊挂法〔垂直法)、水平法、水平支持法(自重法〕、气垫法等。 化学钢化法根据变换离子的类型及离子交换处理的温度又可分为低于转变点温度的离子交换法及高于转变点温度的离子交换法。 水平法是玻璃在水平状态进行输送、加热、成型、淬冷等工艺过程生产钢化玻璃的方法。根据配备的设备，可生产平面、单弯、双曲面弯、双折板等品种的钢化玻璃。本法有多种类型的生产线。常用的为水平辊道往复式平钢化玻璃生产线。 生产能力计算 钢化玻璃生产线的生产能力取决于加热炉的生产能力，加热炉的生产能力按下式计算: 式中A—加热炉炉膛面积 s—所生产玻璃的厚度，以mm计，因次不计入计算结果; n1—每天工作班数(班); n2—每年工作天数(d); ?1—装载系数，垂直法为50% -70%，水平法为50% -70%; ?2-时间利用系数(%)。 根据各种加热炉长期生产实际经验的总结，每1 mm厚度玻璃所需的加热时间为40s。每班工作8h，当一班或两班生产时，上班后需将加热炉从保温温度升至工作温度，要除去这些非生产时间。 6 玻璃的表面处理设备（镀膜玻璃） 如果在平板玻璃上镀膜，这种膜必须具有以下特点： 与平板玻璃的性能兼容； 膜层材料的可用性以及实现工业规模的镀膜设备所要求的工艺过程的可能性； 在大面积表面上形成足够平坦的膜层的可行性； 控制膜层厚度的可操作性； 达到适当的镀膜速度的能力； 经济生存能力； 环保性。 这些要求在很大程度上限制了可使用的镀膜技术的数量。 当前，在平板玻璃上采用的薄膜技术可以分为： 真空工艺，也就是平常所说的物理气相沉积。Physical Vapor Deposition 化学工艺，也就是平常所说的化学气相沉积。Chemical vapor deposition 化学镀膜法是将银氨溶液和还原液喷洒到玻璃表而后产生化学反应生成膜层，膜都是金属膜;其化学沉积法产品的类型是硅膜，凝胶法是氧化物膜和金属胶体膜。 磁控溅射 溅射原理如下:磁控溅射是在溅射装置中设置磁场以控制电子运动方向，束缚电子运动轨迹，从而提高工作气体的电离几率和有效地利用电子能量，提供大量的轰击靶材的正离子，形成高密度的等离子区，由于正离子轰击靶材而产生溅射，溅射粒子的中性靶原子在基片上沉积成膜，而其中的二次电子进人等离子区参与电离碰撞，不断地补充大量的正离子，二次电子在其能量将耗尽时，被阳极吸引而导出真空室。 磁控溅射的生产，需要使用下面两类材料: 1.溅射气体：有工作气体及反应气体两大类。 工作气体通常采用氩气； 为了产生氧化物、氮化物、硫化物和碳化物膜层，在进行溅射时，溅射室分别加人氧气、氮气、硫化氢、甲烷气体，纯金属靶材溅射出来的原子与这些气体进行化学反应，生成氧化物或氮化物、硫化物、碳化物，然后沉积在基片表而而形成氧化物、氮化钡、硫化物或碳化物膜层。这些气体称为反应气体。工业生产制备氧化物、氮化物的膜层较多，所以常用的反应气体多为氧气和氮气。 (2)溅射材料 溅射材料〔靶材)通常制成矩形板、圆形板、辊形。小型溅射装置的靶材也有做成圆盘形或棒形。金属、半导体、合金、卤化物(通常是氟化物)、氧化物、硫化物、硒化物、元素周期表中 Ⅲ～V族单质和Ⅱ ～Ⅵ族化合物及金属陶瓷都适于做靶材。经常使用的是金属、合金、半导体和氧化物，有时也使用氮化物、硅化物、碳化物和硼化物。 制造阳光控制镀膜玻璃、玻璃镜、导电膜玻璃的靶材，采用非磁性导电材料铬、锡、锌、铜、铝、铋、不锈钢、铟锡合金等。制造低辐射镀膜玻璃则采用金、银，铜或铅等靶材。 溅射室 溅射室是一个圆柱形或矩形的卧式釜，如图所示者为圆柱形，一端有釜门，釜内有装片框吊挂轨道、移动式阴极吊挂轨道、移动式阴极及驱动装置、预溅射挡板、装片框下部导槽、阴极下部导槽。釜的末端有接真空系统的管道及通工作气体、反应气体的管道口釜首端顶部有开门机构。 真空系统 真空系统设有两组真空泵、自控阀门、仪表及管道。 油泵、供油雄及压缩空气系统 此油泵及供油罐是向移动式阴极驱动所用的气动、气液联动装置供给高压油，无油压缩空气用管道接至镀膜机附近，经再过滤及去水后接至气动、气液联动驱动装置，油、气经自动阀门通过程序自控装置的指令开关阀门，最终实现阴极按预定方向往复运动。 装片机 玻璃基片自集装架或木