01 扫描电子显微分析02课件.pptVIP

* 电子微显与微分析技术 材料与能源学院 * 绪论 显微分析的内容： 表面和内部组织形貌（形貌分析） 化学成分和价键结构（成分与价键分析） 晶体的相结构（物相分析） 有机物的分子结构（分子结构分析） 基本原理：利用入射电磁波或物质波与物质作用，产生携带样品信息的各种出射电磁波或物质波，探测这些出射的信号，进行分析处理，即可获得材料的组织、结构、成分、价键信息。 * 形貌分析 光学显微镜 扫瞄电子显微镜（SEM） 扫描隧道显微镜（STM） 原子力显微镜(AFM) * 成分与价键分析 电子探针仪（EPMA） 俄歇电子能谱仪（AES） X射线光电子能谱仪（XPS ，UPS) 二次离子质谱（SIMS） 卢瑟辐背散射谱（RBS) * 结构分析 X射线衍射（XRD） 透射电子显微镜（TEM）（形貌、结构） 透射电子衍射(TED) 高分辨透射电镜(HRTEM) 低能电子衍射(LEED) 中子衍射（ND） * 分子结构分析 红外光谱(FTIR) 紫外可见吸收光谱（UV-Vis） Raman 光谱 核磁共振光谱（NMR） * 提高分辨率的途径 1、减小波长 根据分辨率公式： （1）使用短波长可见光，如蓝光DVD，紫外光刻 （2）使用物质波—电子显微镜 2 增加数值孔径（N.A.） * 第一章 扫描电子显微分析 电子束与固体样品作用时产生的信号 扫描电镜发展简史 扫描电镜工作原理及构造 * 电子束与固体样品作用时产生的信号 * 二次电子：外层价电子激发(SEM) 背散射电子：被反弹回来的一部分入射电子 (SEM) 吸收电子(SEM) 透射电子（TEM） 俄歇电子：内层电子激发(AES，表面层成分分析) 特征X射线：内层电子激发(EPMA，成分分析) * 1.1.1二次电子 当入射电子与原子核外电子发生相互作用时，会使原子失掉电子而变成离子，这个脱离原子的电子称为二次电子。 二次电子的能量较低，不超过50eV。二次电子只能从样品表面层5-nm深度范围内被入射电子束激发出来。 当样品表面不平时，入射束相对于样品表面的入射角发生变化，使二次电子的强度相应改变，如果用检测器收集样品上方的二次电子并使其形成反映样品上各照射点信息强度的图像，则可将样品表面形貌特征反映出来，形成所谓“形貌衬度”图像。 特点： 对样品表面形貌敏感 空间分辨率高 信号收集效率高 * 1.1.2 背散射电子(BE) 在弹性和非弹性散射过程中，有些入射电子累计散射角超过90°，这些电子将重新从样品表面逸出，称为背散射电子。即被固体样品中的原子核反弹回来的一部分入射电子。 背散射电子来自样品表层几百纳米的深度范围。 在电子显微分析仪器中利用背散射电子信号通常是指那些能量较高的电子，其中主要是能量等于或接近E0的电子。 特点： 对样品物质的原于序数敏感 分辨率及信号收集率较低 * 1.3 扫描电镜的工作原理及构造 SEM是利用聚焦电子束在样品上扫描时激发的某种物理信号来调制一个同步扫描的显象管在相应位置的亮度而成象的一个电子光学仪器（显微镜）。 光栅扫描，逐点成像 * 1.3.1 成像原理 利用扫描线圈使电子束在样品表面进行扫描，同时控制电子束的扫描线圈上的电流与显示器相应偏转线圈上的电流同步。 因此，试样上的扫描区域与显示器上的图像相对应，每一物点均对应于一个像点。 由于高能电子束与样品物质的相互作用，产生各种电子信息：二次电子，反射电子，吸收电子等。这些信息被收集后经过放大送到成像系统，用于调制像点的亮度，信号越强，像点越亮。 样品表面扫描过程任意点发射的信息均可以记录下来，获得图像的信息。 * 二次电子的数量是样品表面特征和入射角的函数，二次电子的出射方向又与样品表面特征有关。实际样品表面并非光滑的， 对于同一入射电子束，不同部位的法线夹角是不同的，这样就会产生二次电子强度的差异。 不同强度的二次电子信息，由检测器接收、转换成不同亮度的光信号，经光电倍增管放大，并转换成视频电信号，这些信号的强度同样代表着形貌的差异，经过放大调制显像管电子束的强度，使显像管在相应的象素位置以相应的亮暗反映出来，从而得到了反映样品表面形貌的二次电子图像. 二次电子成像过程