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等离子刻蚀工艺江苏林洋新能源有限公司2005年10月5日 目 录 1 概述 2 等离子刻蚀基本原理 3 等离子刻蚀基本工艺 4 刻蚀后硅片检验 1.1 太阳能电池片生产工艺流程 概述 1.2 等离子刻蚀工艺的目的 概述 2.1 等离子体 等离子刻蚀基本原理 2.2 刻蚀机构 等离子刻蚀基本原理 2.2 刻蚀方程式 等离子刻蚀基本原理 2.2 氧气的作用 等离子刻蚀基本原理 等离子刻蚀的作用： 除去太阳电池周边的在扩散工艺中在硅片的表面和周边都扩散了N型结，如果不去除周边N型结会导致电池片正负极被周边N型结连接起来时电池正负极相通起不到电池的作用。如果硅片未刻蚀或刻蚀不净没及时发现并下传印刷将产生低并组片。我们可以通过红外热成像仪检测并判断低并组是否由刻蚀原因产生的。 3.1 工艺参数 等离子刻蚀基本原理 4.1 刻蚀后硅片检验 分选测试 PECVD 一次清洗 二次清洗 烧结 印刷电极 等离子刻蚀 检验入库 扩散 将PN结周边刻蚀 P型衬底 等离子体（Plasma）的含义 包含足够多的正负电荷数目近于相等的带电粒子的物 质聚集状态。 由于物质分子热运动加剧，相互间的碰撞就会使气体分子产生电离，这样 物质就变成由自由运动并相互作用的正离子和电子组成的混合物(蜡烛的火 焰就处于这种状态)。我们把物质的这种存在状态称为物质的第四态，即等 离子体(plasma)。因为电离过程中